| 主权项 |
1.一种可降低微粒污染之真空吸引装置,包括:一支撑盘,具有一上表面,该支撑盘内具有至少一通道连接至该上表面;一第一管路,一端与该通道相连;一控制装置,与该第一管路之另一端相连;一第二管路,一端连接至该控制装置,另一端连接至一真空系统;一第三管路,一端连接至该控制装置,另一端连接至一排水系统;以及一清洗装置,用以清洗该支撑盘之该上表面。2.如申请专利范围第1项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,其中该控制装置为一控制阀组,该控制阀组具有一第一入口、一第一出口和一第二出口,分别连接该第一管路、该第二管路和该第三管路,且该控制阀组包含控制该第一管路与该第三管路之间的开关之一第一阀门,以及控制该第一管路与该第二管路之间的开关之一第二阀门。3.如申请专利范围第2项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,其中该第一阀门和该第二阀门为单向阀。4.如申请专利范围第1项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,其中该控制装置为一三通阀。5.如申请专利范围第4项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,其中该三通阀为一三通单向阀。6.如申请专利范围第1项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,其中该清洗装置为一喷水器。7.如申请专利范围第1项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,其中该清洗装置为一洗涤器。8.如申请专利范围第1项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,其中该清洗装置为一超音波震动喷水器。9.如申请专利范围第1项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,更包括一旋转轴位于该支撑盘下方,且与该支撑盘接触,周以旋转该支撑盘。10.一种可降低微粒污染之真空吸引装置,包括:一支撑盘,具有一上表面,该支撑盘内具有至少一通道连接至该上表面;一第一管路,一端与该通道相连;一第二管路,一端连接至该第一管路,另一端连接至一真空系统;一第一阀门,设置于该第二管路上;一第三管路,一端连接至该第一管路,另一端连接至一排水系统;一第二阀门,设置于该第三管路上;以及一清洗装置,用以清洗该支撑盘之该上表面。11.如申请专利范围第10项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,其中该第一阀门和该第二阀门为单向阀。12.如申请专利范围第10项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,其中该清洗装置为一喷水器。13.如申请专利范围第10项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,其中该清洗装置为一洗涤器。14.如申请专利范围第10项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,其中该清洗装置为一超音波震动喷水器。15.如申请专利范围第10项所述之可降低微粒污染之真空吸引装置,更包括一旋转轴位于该支撑盘下方,且与该支撑盘接触,用以旋转该支撑盘。图式简单说明:第1图系显示真空吸引装置的侧视图。第2图显示一种真空吸引装置之环绕型支撑盘的上视图。第3图系为第2图的切线11之部分剖面放大图。第4图显示一种真空吸引装置之岛状型支持盘的上视图。第5图系为第4图的切线55之剖面图。第6图系为根据本发明第一实施例之一种可降低微粒污染之真空吸引装置。第7图系为根据本发明第二实施例之一种可降低微粒污染之真空吸引装置。第8图系为根据本发明第三实施例之一种可降低微粒污染之真空吸引装置。 |
