发明名称 形成涂层之方法和装置
摘要 组成:被粉末所附着之冲击介质m冲击在形成有黏着层之物件上,使得粉末可黏着至物件之表面上,其中冲击介质包含一种磁性材料,并受到磁场之影响。效果:即使待涂层之物件具有小孔或深孔或尖锐隅角,而且,某些介质被捕获在此种孔或隅角内,冲击介质之被捕获粒子,可由冲击介质粒子连结被捕获冲击介质粒子之磁力所吸引,从而可从此种小孔及隅角内被弹出。因此,冲击介质可防止在一物件内所形成之小孔或深孔或尖锐隅角被捕获,因而在传统方法中所产生的问题可获得补救。
申请公布号 TW546171 申请公布日期 2003.08.11
申请号 TW089125586 申请日期 2000.12.01
申请人 因太金属股份有限公司 发明人 板谷 修;佐川真人
分类号 B05D7/00 主分类号 B05D7/00
代理机构 代理人 何金涂 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼;何秋远 台北市大安区敦化南路二段七十七号八楼
主权项 l.一种在物件之表面上形成涂层之方法,其中被覆盖粉末之冲击介质碰撞在形成有黏着层之物件上,因而使粉末黏结在物件之表面上,其特征为该冲击介质包含一种磁性材料,并受到一磁场之影响。2.如申请专利范围第1项在物件之表面上形成粉末涂层之方法,其中该冲击介质包含一种磁性材料形成一个磁刷。3.一种在物件之表面上形成涂层之装置,包括有一个物件,其上形成有黏着层,冲击介质,包含被粉末覆盖之一种磁性材料,用来移动物件及冲击介质申之一或两者之装置,以及施加磁场到冲击介质上之装置。图式简单说明:第1图为可实施本发明之方法的涂层装置之透视图。第2图为在第1图中部分切开的部分涂层装置之透视图。第3图为包括组成第1图涂层装置的磁铁固定架部分之分解透视图。第4图为包括组成第1图涂层装置的冲击介质存储箱部分之分解透视图。第5图为第1图涂层装置的局部垂直横剖面之透视图。第6图为组成第1图涂层装置并包括一盖部的部分切开之分解透视图。第7图为第1图涂层装置的轨道横向内之垂直剖面图。第8图为第1图涂层装置之垂直投影图。第9图显示能实施本发明之方法的涂层装置另一实施例的局部横剖面视图。第10图为第9图涂层装置在侧投影之局部横剖面图。第11图显示可实施本发明之方法的另一涂层装置之实施例的垂直剖面图。第12图为能实施本发明之方法的涂层装置的更另一变化实施例的垂直剖面图。
地址 日本