| 主权项 |
1.一种包括一切向风扇的放电雷射装置,其系包含:A)一雷射室,其系包含:1)一雷射气体,2)至少二纵向的电极,其系构形用以产生放电,在该气体中定出一放电区域,3)一切向风扇,系用于循环该雷射气体,该风扇定出一转动轴以及一周长大体上系与该转动轴同中心,并包含一整体的风扇叶片结构,该结构包含:a)复数之叶片构件,其系配置最接近该周长;以及b)复数之轮毂构件支撑着该叶片并定出风扇叶片部分;该叶片构件系配置用以将在从该叶片构件放电产生的音响冲击波之反射的该放电区域中的不利影响降至最低,B)一脉冲电源,用以提供高电压电气脉冲至该电极,在该电极间产生放电。2.如申请专利范围第1项之装置,其中位在该复数之部分的每一部分中该叶片构件之数目系为一奇数。3.如申请专利范围第1项之装置,其中该叶片构件具有一翼剖面的横截面形状。4.如申请专利范围第1项之装置,其中该轮毂构件大体上相对于该转动轴横向地配置,其中选定该轮毂构件之数目与朝向的配置俾使控制该切向风扇之弯曲模态振动的自然频率。5.如申请专利范围第4项之装置,其中选定该轮毂构件俾使该切向风扇之弯曲模态振动的自然频率系大于该切向风扇之转动频率的二倍。6.如申请专利范围第1项之装置,其中该切向风扇之材料系为由6061铝、包含大体上由3.5-6.5%的铜以及0-2.5%的镍所组成之添加金属的一铝合金、以及包含大体上由3.5-6.5%的铜以及0-1.5%的银所组成之添加金属的一铝合金所组成之群组中选定。7.如申请专利范围第1项之装置,其中该叶片构件系配置模拟一双重螺旋。8.如申请专利范围第7项之装置,其中该复数之轮毂构件系超过15个并低于25个。9.如申请专利范围第7项之装置,其中该叶片构件的横截面系与一圆之弧度相对应。10.如申请专利范围第7项之装置,其中该圆系藉由一小于10寸之半径所定出。11.如申请专利范围第1项之装置,其中该叶片系非对称地配置在该复数部分之每一部分中。12.如申请专利范围第1项之装置,其中在该复数部分之每一部分中之该叶片构件,相对于在相邻部分中的叶片系非对称地配置。13.如申请专利范围第1项之装置,其中在该复数部分之每一部分中之该叶片系配置俾便针对风扇叶片结构模拟一双重螺旋的形式,并且位在每一部分中之叶片同时系非对称地配置。14.如申请专利范围第13项之装置,其中在该复数部分之每一部分中之该叶片,相对于在相邻部分中的叶片系非对称地配置。15.如申请专利范围第1项之装置,其中该叶片构件的横截面系藉由一第一圆弧其之第一半径定出一凸面的叶片构件圆柱状表面,以及一第二圆弧其之第二半径定出一凹面的圆柱状表面所定出。16.如申请专利范围第15项之装置,其中该第一半径系大于该第二半径,并且该二半径之每一半径系具有一共同的平直线原点。17.如申请专利范围第15项之装置,其中该第二半径系大于该第一半径,以及该第二半径的一原点系较该第一半径之该对应的原点更为远离该叶片构件。18.如申请专利范围第17项之装置,其中该叶片构件包含二圆柱状表面以及一尖锐的前缘。19.如申请专利范围第1项之装置,其中该所有的或大体所有的叶片构件包含二圆柱状表面以及一尖锐的前缘。图式简单说明:第1a及1b图系为习知技艺之雷射室的图式。第2图系为频宽图式以重复率为函数。第3A及3B图系为室之横截面以及冲击的形式。第4A、4B及4C图系为频宽与脉冲数之变化。第5.5A、5B、5C及5D图系图示一第一较佳风扇叶片结构。第6.6A及6B图系图示一第二较佳的风扇叶片结构。第7A及7B图系为一轴总成之图式。 |
