| 主权项 |
1.一种降低光阻剂基材依存性之改善剂,包括在分子中含有一至四种其-NH-直接键之一或二个键系直接键结于一至三种选自-C(=O)-,-C(=S)-,及-SO2-基之构造之化合物;其中该化合物包括一至七种选自下列(1)至(7)之化合物:(1)一种由脂肪系二元酸所衍生之醯亚胺化合物,该醯亚胺化合物为琥珀醯亚胺、马来醯亚胺、戊二醯亚胺、二甲双酮、二乙双酮、绕丹宁、海因、尿嘧啶、二氢尿嘧啶、2,4-二氧代六氢-1,3,5-三、乙二醯、丙二醯、四氧嘧啶、紫尿酸等等;(2)一种以下式[2]表示由芳香系二元酸所衍生之醯亚胺化合物:其中X为氧原子或硫原子;D为可含有氧原子、氮原子或硫原子当作构成原子之饱和或不饱和5-或6-员环,且构成环之碳原子可具有取代基,而硫原子可具有一或二个氧基,且E为含有碳原子当作构成原子之饱和或不饱和6-员环或稠环,且环E与环D形成稠环;(3)一种以下式[3]表示之化合物:其中G为可含有氧原子当作构成原子之饱和或不饱和6-至8-员环;J及L二者分别为苯环,且环J及环L分别与环G形成稠环;(4)苯均四酸二醯亚胺;(5)本达隆(bentazone);(6)磺醯胺衍生物;及(7)一种以下式[21]表示之化合物:其中X1及X2分别为经取代或未经取代之烷基或苯基;n为1至3之整数;且在数个n中之X分别为氧原子或硫原子。2.如申请专利范围第1项之改善剂,其中由芳香系二元酸衍生之醯亚胺化合物为醯亚胺、1,2,3,6-四氢醯亚胺、1,8-醯亚胺、或2,3-二醯亚胺者。3.如申请专利范围第1项之改善剂,其中磺醯胺衍生物为RoSO2NHR'所示之化合物,其中Ro为经取代或未经取代之烷基、或经取代或未经取代之芳基;且R'为氢原子或烷基者。4.如申请专利范围第3项之改善剂,其中磺酸胺衍生物为甲苯磺醯胺、苯磺醯胺、或甲烷磺醯胺者。5.如申请专利范围第1项之改善剂,其中以式[21]表示之化合物为N-苯醯基苯醯胺或二乙醯胺者。6.一种光阻剂组成物,包括:(a)经由酸之作用可变成硷可溶之聚合物,(b)以光化幅射照射可以产生酸之化合物,(c)如申请专利范围第1项所述分子中含有一至四种其-NH-直接键之一或二个键系直接链结于一至三种选自-C(=O)-,-C(=S)-,及-SO2-基之构造之化合物,及(d)可溶解此三种成份之溶剂;其中相对于100重量份聚合物(a),化合物(c)之量为0.01至10重量份。7.一种光阻剂组成物,包括:(a)硷可溶之聚合物,(b)经由酸之作用可变成硷可溶之化合物,(c)可以光化辐射照射时产生酸之化合物,(d)如申请专利范围第1项所述分子中含有一至四种其-NH-直接键之一或二个键系直接键结于一至三种选自-C(=O)-,-C(=S)-,及-SO2-基之构造之化合物,及(e)可溶解此四种成份之溶剂;其中相对于100重量份聚合物(a)及化合物(b)之总量,化合物(d)之量为0.01至10重量份。8.一种光阻剂组成物,包括:(a)硷可溶之聚合物,(b)可经由与酸之作用,与其交联使该聚合物难溶于硷之化合物,(c)可以在光化辐射照射时产生酸之化合物,(d)如申请专利范围第1项所述分子中含有一至四种其-NH-直接键之一或二个键系直接键结于一至三种选自-C(=O)-,-C(=S)-,及-SO2-基之构造之化合物,及(e)可溶解此四种成份之溶剂;其中相对于100重量份聚合物(a)及化合物(b)之总量,化合物(d)之量为0.01至10重量份。9.如申请专利范围第6至8项任一项之光阻剂组成物,其中如申请专利范围第1项之化合物包括由脂肪系二元酸所衍生之醯亚胺化合物者。10.如申请专利范围第6至8项任一项之光阻剂组成物,其中如申请专利范围第1项之化合物包括由芳香系二元酸所衍生之醯亚胺化合物者。11.如申请专利范围第9项之光阻剂组成物,其中由脂肪系二元酸衍生之醯亚胺化合物为琥珀醯亚胺、马来醯亚胺或戊二醯亚胺者。12.如申请专利范围第10项之光阻剂组成物,其中由芳香系二元酸衍生之醯亚胺化合物为醯亚胺、1,2,3,6-四氢醯亚胺、1,8-醯亚胺、或2,3-二醯亚胺者。13.如申请专利范围第6至8项任一项之光阻剂组成物,其中磺醯胺衍生物为RoSO2NHR'所示之化合物,其中Ro为经取代或未经取代之烷基、或经取代或未经取代之芳基;且R'为氢原子或烷基者。14.如申请专利范围第13项之光阻剂组成物,其中磺酸胺衍生物为甲苯磺醯胺、苯磺醯胺、或甲烷磺醯胺者。15.如申请专利范围第6至8项任一项之光阻剂组成物,其中以式[21]表示之化合物为N-苯醯基苯醯胺或二乙醯胺者。图式简单说明:第1图为使用含本发明化合物之光阻剂组成物制得具有良好轮廓之接触孔之剖面图。第2图为使用不含本发明化合物之光阻剂组成物制得之具有不良轮廓之接触孔之剖面图。第3图为使用在23℃下储存2周后之旧有技艺光阻剂组成物制得之具有不良轮廓之接触孔之剖面图。第4图为使用含有本发明化合物之光阻剂组成物制得之具有良好轮廓之直线-反应间-图案之剖面图。第5图为使用不含本发明化合物之光阻剂组成物制得之具有不良轮廓之直线-与空间-图案之剖面图。第6图为使用在23℃下储存2周后之旧有技艺光阻剂组成物制得之具有不良轮廓之直线-与空间-图案之剖面图。 |
