METHOD FOR DEPOSITING METAL-FREE CARBON LAYERS

摘要

Ein Verfahren zur Abscheidung von metallfreien amorphen wasserstoffhaltigen Kohlenstoffschichten arbeitet mit dem Sputtern von Targets auf Substrate. Als Target wird ein reines Kohlenstoff-Target, insbesondere ein Graphit-Target eingesetzt und mit einer negativen Gleichspannung vorgespannt. Auch das Substrat wird bevorzugt mit Gleichstrom versorgt. Es wird bevorzugt in der unbalancierten Magnetronbetriebsart gearbeitet. Dadurch ist die Herstellung von metallfreien DLC-Schichten mit hohen Verschleiss- und Härtewerten möglich.