发明名称 |
Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargetmaterials |
摘要 |
Die Erfindung stellt ein Verfahren zur Herstellung eines Sputtertargetmaterials bereit, umfassend eine Elektrolyse eines geschmolzenen Salzgemisches, welche ein Edelmetallsalz und ein Lösesalz enthält, um dadurch ein Edelmetall oder eine Edelmetallegierung abzuscheiden. Das Verfahren ermöglicht eine Vereinfachung von Verfahrensschritten und erzeugt hochreine Targetmaterialien. Zusätzlich wird das elektroabgeschiedene Edelmetall oder die elektroabgeschiedene Edelmetallegierung bei einer Temperatur von mindestens 800 DEG C, aber unterhalb des Schmelzpunkts des Edelmetalls wärmebehandelt, um dadurch ein Targetmaterial höherer Reinheit herzustellen.
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申请公布号 |
DE19981324(C2) |
申请公布日期 |
2003.08.07 |
申请号 |
DE19991081324 |
申请日期 |
1999.06.16 |
申请人 |
TANAKA KIKINZOKU KOGYO K.K., TOKIO/TOKYO |
发明人 |
HARA, NORIAKI;YARITA, SOMEI;HAGIWARA, KEN;MATSUZAKA, RITSUYA |
分类号 |
C23C14/34;C25D3/66;C25D5/50;(IPC1-7):C23C14/34;C25C3/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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