发明名称 从自沉积浴中除去金属离子和污染物的方法
摘要 一种能从化学浴中定期地除去金属离子和污染物的自动化系统,其中包括一台微处理机,它可控制泵和阀门的流动回路,首先将第一份预定数量的化学浴从第一槽中循环流过一个离子交换柱并回到第一槽;再将去离子水从第二槽循环进入IEX柱以便顶替走其中的残留化学浴,使其回到第一槽;将去离子水循环流过IEX柱;将再生剂酸经过离子交换树脂循环;将去离子水经过IEX柱循环,以便冲洗其中的酸再生剂;将化学浴循环送入IEX柱中,顶替走其中残留的冲洗水,为化学浴的处理循环作准备。
申请公布号 CN1116910C 申请公布日期 2003.08.06
申请号 CN99104037.6 申请日期 1994.01.13
申请人 亨凯尔公司 发明人 W·G·科泽克;J·C·托平
分类号 B01D15/04;B01J47/02;C25D13/24 主分类号 B01D15/04
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 龙传红
主权项 1.一种从自沉积系统中使用的涂料组合物浴中除掉金属离子和污染物的方法,所述的自沉积系统包括一个装去离子水的第一槽、装化学再生剂的第二槽、装用过一次的化学再生剂的第三槽、装涂料组合物的第四槽和一个装有离子交换材料的离子交换柱,该方法包括以下步骤:确定涂料组合物中的金属离子浓度何时增加到预定的水平;将涂料组合物从第四槽中循环流过所述离子交换柱,所述涂料组合物循环通过离子交换柱后回到第四槽;确定何时已经对足够数量的涂料组合物作了去除金属离子的处理,以便将第四槽中涂料组合物内的金属离子的浓度减小到可接受的水平;和终止涂料组合物经过所述离子交换柱的循环。
地址 美国宾西法尼亚