发明名称 |
三层多晶硅嵌入式非易失性存储器单元及其制造方法 |
摘要 |
包括非易失性随机存取存储器(NVRAM)阵列的逻辑芯片和其制造方法。该芯片包括各种器件,其栅在三层多晶硅中的一层或多层上。芯片逻辑使用普通FET,阵列支持包括高压FET。逻辑和支持都是CMOS。该芯片逻辑内的普通FET的栅由第三层或最高层多晶硅实现。第三层多晶硅同样用做高压FET和阵列字线的掩模,而两者都以第二层多晶硅为栅。第一层多晶硅只用做单元浮栅。 |
申请公布号 |
CN1117398C |
申请公布日期 |
2003.08.06 |
申请号 |
CN99127057.6 |
申请日期 |
1999.12.27 |
申请人 |
国际商业机器公司 |
发明人 |
冲·H·兰姆;格伦·L·迈尔斯;詹姆斯·S·纳库斯;克里斯塔·R·威利兹 |
分类号 |
H01L27/115;H01L21/8239;H01L21/82;G11C11/34;G11C16/02 |
主分类号 |
H01L27/115 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王永刚 |
主权项 |
1.集成电路(IC)逻辑芯片,包括:一个或多个NVRAM单元构成的非易失性随机存取存储器(NVRAM)阵列,每个所述单元包括:位于位线和源线之间的浮栅,所述浮栅在第一多晶硅层上,以及第二多晶硅层上的字线;单元选择电路,所述单元选择电路包括在所述第二多晶硅层上具有栅的多个高压FET;以及包括在第三多晶硅层上具有栅的多个普通FET的多个逻辑栅,所述单元选择电路选择所述阵列内响应所述多个逻辑栅的单元,所述多个逻辑栅从所述阵列接收选择的数据。 |
地址 |
美国纽约 |