发明名称 结构填料
摘要 流体-流体接触设备(10)带有一种结构填料,该结构填料包括一系列填料件(20),这些填料件由波纹材料的片材(24)以这样的方式制成,在各片材(24)内的波纹(26)相对于大量流体流过设备(10)的方向倾斜延伸。各填料件(20)的定向使其片材(24)在与相邻的片材(24)成一变换的角度的平面内。在相邻填料件(20)的交界面(21)处或其附近带有用于减小当连续相从一个填料件(20)向下一填料件流动时所产生的压力降的装置。
申请公布号 CN1116925C 申请公布日期 2003.08.06
申请号 CN96198029.X 申请日期 1996.10.28
申请人 苏舍化学技术有限公司 发明人 W·D·帕尔滕
分类号 B01J19/32 主分类号 B01J19/32
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 崔幼平;林长安
主权项 1.一种流体-流体接触设备(10),其中,结构填料件包括多个连续地排列在一设计流动方向上的填料件(20),每个所述填料件包括多个波纹形片材(24),这些片材以面对面的关系排列,带有相对于流体流动方向倾斜延伸的波纹(26、28、28’),相继的填料件这样排列,一个填料件内的片材相对于相邻的填料件内的片材成角度偏移,和用于降低在所述相继的填料件之间的交界面(21)处施加在连续相上的压力降的装置,所述相继的填料件布置在所述交界面处或其附近,其特征在于,所述装置构造成在紧挨着交界面的波纹的构形有局部变化;每个填料件的至少一些片材具有至少一些波纹,带有延伸到所述交界面的波纹角,所述波纹角在至少一个所述交界面的附近(30、32)逐渐变化;所述波纹角在所述填料件的本体中于一中间部分内基本上是一恒定值,且所述逐渐变化的波纹角大于所述恒定值。
地址 瑞士温特图尔