| 主权项 |
1.一种材质贴图方法,用以将复数像素点进行材质贴图,该方法包括下列步骤:依据每一该等像素点之一材质座标,计算一唯一材质座标;依据该唯一材质座标进行一材质过滤程序,从而得到一材质过滤结果;以及将该材质过滤结果指定给该等像素点。2.如申请专利第1项所述之方法,其中该唯一材质座标系将每一该等像素点之该材质座标进行平均而得到。3.如申请专利第1项所述之方法,其中该材质过滤程序系依据一双线性过滤技术而进行。4.如申请专利第1项所述之方法,其中该材质过滤结果为一颜色値。5.一种材质贴图方法,用以将复数像素点进行材质贴图,该方法包括下列步骤:将该等像素点进行分组,从而得到复数像素群组;以及对于每一该等像素群组,依据该像素群组中每一该等像素点之一材质座标,计算一唯一材质座标;依据该唯一材质座标进行一材质过滤程序,从而得到一材质过滤结果;以及将该材质过滤结果指定给该像素群组中之该等像素点。6.如申请专利第5项所述之方法,其中该唯一材质座标系将该像素群组中每一该等像素点之该材质座标进行平均而得到。7.如申请专利第5项所述之方法,其中该材质过滤程序系依据一双线性过滤技术面进行。8.如申请专利第5项所述之方法,其中该材质过滤结果为一颜色値。9.如申请专利第5项所述之方法,其中将该等像素点进行分组的方法系依据该等像素点在一材质地图上的形状而决定。图式简单说明:第1图系显示一材质处理系统之示意图。第2A图系显示最近点取样技术之示意图。第2B图系显示双线性过滤技术之示意图。第2C图系显示三线性过滤技术之示意图。第3图系显示材质放大(Magnification)之示意图。第4图系显示依据本发明第一实施例之材质贴图方法之操作流程图。第5图系显示依据本发明第二实施例之材质贴图方法之操作流程图。第6图系显示依据本发明第二实施例之材质贴图方法之一分组例子。第7图系显示依据本发明第二实施例之材质贴图方法之另一分组例子。 |
