| 摘要 |
<p>Procédé visant à nettoyer des résidus de traitement de la surface d'un élément (15) de chambre de traitement de substrats qui comporte des trous (30). Le procédé comprend les étapes consistant à immerger au moins partiellement l'élément (15) dans une solution de nettoyage (20) renfermant de l'acide hydrofluorique et de l'acide nitrique, et à faire passer un gaz non réactif à travers les trous (30) pour empêcher un reflux de la solution de nettoyage (20) dans les trous (30) pendant le procédé de nettoyage. Le procédé est particulièrement utile pour nettoyer des dépôts de résidus de pulvérisation d'un mandrin électrostatique utilisé dans un procédé de pulvérisation.</p> |
