| 发明名称 | 光致抗蚀剂组合物及用该组合物形成图案的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开一种具有良好灵敏度和余层特性的光致抗蚀剂组合物和用该组合物形成图案的方法。该光致抗蚀剂组合物包括约5％重量至约30％重量的聚合树脂、约2％重量至约10％重量的光敏化合物、约0.1％至约10％重量的灵敏度提高剂、约0.1％重量至约10％重量的灵敏度抑制剂和约60％重量至约90％重量的有机溶剂。在基板上涂覆光致抗蚀剂组合物，然后干燥涂覆的光致抗蚀剂组合物，形成光致抗蚀剂层。然后，通过使用具有预定形状的掩模使所述光致抗蚀剂层曝光。接下来，通过使曝光的光致抗蚀剂层显影而形成光致抗蚀剂图案。光致抗蚀剂图案具有均匀的涂层厚度和临界尺寸。 | ||
| 申请公布号 | CN1432872A | 申请公布日期 | 2003.07.30 |
| 申请号 | CN02150451.2 | 申请日期 | 2002.11.12 |
| 申请人 | 三星电子株式会社 | 发明人 | 李有京;姜圣哲;周振豪;李东基;李承昱;姜勋 |
| 分类号 | G03F7/012;G03F7/038;G03F7/16;H01L21/027 | 主分类号 | G03F7/012 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 贾静环;宋莉 |
| 主权项 | 1.光致抗蚀剂组合物，包括约5％至约30％重量的聚合物树脂、约2％至约10％重量的光敏化合物、约0.1％至约10％重量的灵敏度提高剂、约0.1％至约10％重量的灵敏度抑制剂和约60％至约90％重量的有机溶剂。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||