| 发明名称 | 图案形成方法 | ||
| 摘要 | 一种图案形成方法，是对抗蚀剂膜进行预烘焙后，使该抗蚀剂膜中含有的溶剂挥发。在真空中对已挥发溶剂的抗蚀剂膜选择性地照射曝光光而进行图案曝光。使经图案曝光的抗蚀剂膜显影而形成抗蚀剂图案。 | ||
| 申请公布号 | CN1433052A | 申请公布日期 | 2003.07.30 |
| 申请号 | CN03101698.7 | 申请日期 | 2003.01.15 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 远藤政孝;笹子胜 |
| 分类号 | H01L21/027 | 主分类号 | H01L21/027 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 朱丹 |
| 主权项 | 1.一种图案形成方法，其中，具备对抗蚀剂膜进行预烘焙的工艺、使经预烘焙的所述抗蚀剂膜中含有的溶剂挥发的工艺、在真空中对已挥发溶剂的所述抗蚀剂膜选择性地照射曝光光而进行图案曝光的工艺、以及通过使经图案曝光的所述抗蚀剂膜显影而形成抗蚀剂图案的工艺。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||