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发明名称 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR KORREKTUR DER EXZESSIVEN AUSGEHÄRTETEN DICKE VON PHOTOMETRISCH GEFORMTEN GEGENSTÄNDEN
摘要
申请公布号 DE69432836(D1) 申请公布日期 2003.07.24
申请号 DE19946032836 申请日期 1994.11.01
申请人 HITACHI, LTD. 发明人 OZAWA, MASAHIKO;NORIO GOTO, 152 TOKYO;MORITANI, MASUMI;OHKUBO, MASAKATSU;TOSHIRO ENDO, 245 KANAGAWA
分类号 B23K26/00;B29C35/08;B29C37/00;B29C67/00;G06T17/00;(IPC1-7):B29C67/00 主分类号 B23K26/00
代理机构 代理人
主权项
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