| 发明名称 |
METHODS FOR SILICON OXIDE AND OXYNITRIDE DEPOSITION USING SINGLE WAFER LOW PRESSURE CVD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2002360700(A1) |
申请公布日期 |
2003.07.24 |
| 申请号 |
AU20020360700 |
申请日期 |
2002.12.19 |
| 申请人 |
APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
JANARDHANAN, ANAND SUBRAMONY;YOSHITAKA YOKOTA;RAMASESHAN, SURYANARAYANAN IYER;LEE LUO;AIHUA CHEN |
| 分类号 |
C23C16/42;C23C16/30;C23C16/40;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/56;H01L21/316;H01L21/318;(IPC1-7):C23C16/40 |
主分类号 |
C23C16/42 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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