发明名称 METHOD FOR FABRICATING A HIGH VOLTAGE POWER MOSFET HAVING A VOLTAGE SUSTAINING REGION THAT INCLUDES DOPED COLUMNS FORMED BY RAPID DIFFUSION
摘要
申请公布号 AU2002358312(A1) 申请公布日期 2003.07.24
申请号 AU20020358312 申请日期 2002.12.30
申请人 GENERAL SEMICONDUCTOR, INC. 发明人 RICHARD, A. BLANCHARD
分类号 H01L21/329;H01L21/336;H01L29/06;H01L29/10;H01L29/739;H01L29/78 主分类号 H01L21/329
代理机构 代理人
主权项
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