发明名称 System zum Entwerfen einer reflektierenden Oberfläche, Verfahren zum Entwerfen einer reflektierenden Oberfläche, Aufzeichnungsmedium und Computerprogramm
摘要 Ein System (50) zum Entwerfen einer reflektierenden Oberfläche weist (1) eine erste Wiedergabeeinrichtung (54) zum Anzeigen einer Freiform-Oberfläche (20), auf welcher eine Vielzahl von Segmenten (24), von welchen jedes durch eine Vielzahl von Eckpunkten (25¶1¶ bis 25¶4¶) definiert wird, ausgebildet sind (2), eine Reflexionsinformations-Spezifikationseinrichtung (56) zum Spezifizieren der Eckpunktposition und der Lichtreflexionsrichtung für jeden der Vielzahl von Eckpunkten (25¶1¶ bis 25¶4¶), die eines der Vielzahl von Segmenten (24) definieren, und (3) eine Oberflächenberechnungseinrichtung (58) zum Berechnen einer Oberfläche (S), die dem einen Segment (24) zuzuweisen ist, auf der Grundlage der Eckpunktpositionen und der Lichtreflexionsrichtungen, die für die Vielzahl von Eckpunkten (25¶1¶ bis 25¶4¶), die ein Segment (24) definieren, und der Lichtquellenposition, welche im voraus spezifiziert wird, auf.
申请公布号 DE10253400(A1) 申请公布日期 2003.07.24
申请号 DE20021053400 申请日期 2002.11.15
申请人 KOITO MANUFACTURING CO., LTD. 发明人 NATSUME, KAZUNORI;MAEDA, MASAHIRO
分类号 G02B5/10;F21S8/10;F21V7/00;F21V7/09;F21V17/00;F21W101/10;G06F17/10;G06F17/17;G06F17/50;(IPC1-7):F21V7/09;F21S8/12 主分类号 G02B5/10
代理机构 代理人
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