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发明名称 Photoresist compositions comprising polycyclic polymers with acid labile pendant groups
摘要
申请公布号 AU747516(C) 申请公布日期 2003.07.24
申请号 AU19980092199 申请日期 1998.09.03
申请人 THE B.F. GOODRICH COMPANY;INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORP. 发明人 BRIAN L. GOODALL;SAIKUMAR JAYARAMAN;ROBERT A. SHICK;LARRY F. RHODES;ROBERT DAVID ALLEN;RICHARD ANTHONY DI PIETRO;THOMAS WALLOW
分类号 G03F7/004;C08F2/46;C08F32/00;C08G61/08;G03C1/72;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/039 主分类号 G03F7/004
代理机构 代理人
主权项
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