| 发明名称 | 半色调模版及其制造方法和设备 | ||
| 摘要 | 在半色调模版(1)的制造过程中，为了形成模版图案(3)，在基本模版元件的预定模版图案区域(2)内雕刻一模版图案孔结构。另外，在基本模版元件上雕刻多个均匀一致的基准孔结构(4)，每一基准孔结构(4)的渗透度均不同且位于模版图案区域(2)的外侧。在后续的印刷过程中，这些基准孔结构用于生成印刷图案，且其中一部分用于评估模版图案印刷的质量或色彩真实度。 | ||
| 申请公布号 | CN1115246C | 申请公布日期 | 2003.07.23 |
| 申请号 | CN97104203.9 | 申请日期 | 1997.04.18 |
| 申请人 | 库夫施泰因模板技术股份公司 | 发明人 | 海因茨·蒙格纳斯特 |
| 分类号 | B41C1/14;B41N1/24 | 主分类号 | B41C1/14 |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 邵伟 |
| 主权项 | 1.一种用于制造半色调模版(1)的方法，其中，在一基本模版元件(1a，1b；1c，1d)的预定模版图案区域(2)内雕刻一模版图案孔结构，以形成一模版图案(3)，其特征在于，在基本模版元件(1a，1b；1c，1d)中雕刻多个均匀一致的基准孔结构(4)，每一基准孔结构(4)的渗透度均不同并位于模版图案区域(2)的外侧，将每一基准孔结构(4)的渗透度与各期望渗透度进行比较，如果存在偏差，便重新雕刻均匀一致的基准孔结构(4)。 | ||
| 地址 | 奥地利库夫施泰因 | ||