超快过程的探测装置

摘要

一种超快过程的探测装置，其构成和位置关系如下：光源经过第一分光镜分成透射的泵浦光和反射的探针光，该泵浦光经过脉冲展宽器件和第一延时光路系统后，被第一全反光镜反射并经第一汇聚透镜垂直照射在被测样品上，该探针光经第二全反光镜和第三全反光镜后被第二汇聚透镜聚焦到样品上，在该探针光相对于样品的反射光路上设置有第一探测器，在该探针光通过样品的透射方向设有第二探测器，所述的泵浦光的脉冲宽度经脉冲展宽器件被展宽为探针光脉冲宽度的几倍、几十倍或几百倍，所述的探针光与泵浦光共焦。本发明主要适用于测量半导体和透明介质等块体材料和纳米结构材料在超短脉冲激光作用下的超快过程，尤其是适用于测量激发过程。

主权项

1.一种超快过程的探测装置，其特征在于其构成和位置关系如下：光源(1)经过第一分光镜(2)分成透射的泵浦光和反射的探针光，该泵浦光经过脉冲展宽器件(3)和第一延时光路系统(4)后，被第一全反光镜(5)反射并经第一汇聚透镜(7)垂直照射在被测样品(11)上，该探针光经第二全反光镜(15)和第三全反光镜(14)后被第二汇聚透镜(13)聚焦到样品(11)上，在该探针光相对于样品(11)的反射光路上设置有第一探测器(10)，在该探针光通过样品(11)的透射方向设有第二探测器(12)，所述的泵浦光的脉冲宽度经脉冲展宽器件(3)被展宽为探针光脉冲宽度的几倍、几十倍或几百倍，所述的探针光与泵浦光共焦。