| 主权项 |
1.一种二阶段的分散方法,其中,一分流束RI'系从一来自容器之试剂I的主流束RI中被分离,且一与试剂II的混合之第二分流束(次流束RII)系被供应至前述之第一分流束,其混合物系产生于一旋转轮/定片系统之预先混合容室,该二分流束(RI+II)的混合物接着经由一转动的分散装置被馈入剩余的主流束(RI")。2.根据申请专利范围第1项所述之方法,其中,混合作用系藉由在一环部或出口通道的脉动而被加强,而该脉动较佳地形成以在该预先混合容室中建立循环压力以及压力的减小。3.根据申请专利范围第2项所述之方法,其中,试剂I系在高压期间被馈入混合容室中,且其中该混合体系均匀地与试剂II在低压期间的扰流状态下被分散。4.根据申请专利范围第1项所述之方法,其中,该主流束(RI)与及分流束(RI',RI",RII)系接收不同的能量密度,该分流束(RI+II)较佳地被以一种较主流束(RI)或是其中一部份(RI")的能量密度高很多的能量密度被提供于预先混合容室中(例如,以在至少1次方大小)。5.根据申请专利范围第4项所述之方法,其中,在每个分流束(RI',RI",RII)中的能量密度以及保留时间系可分别地改变,尤其是藉由如此的调整将不可能达到一产生一种回复乳状物的临界能量密度。6.根据申请专利范围第1项所述之方法,其中,一个别的分散装置系被提供来连续地仅馈入主流束(RI)的部份(RI“)至试剂II被分剂的预先混合容室中,且其中该馈入的份量系对应总流束(RI)的份量,藉此将可在分散装置的排出流束中达成试剂II的一超浓度,该超浓度的混合物(RI+II)接着被在一小尺寸高压的均质器中被处理,并且被与剩余的试剂RI`再混合。7.根据申请专利范围第1项所述之方法,其中,在一混合区域中(预先混合容室),该混合物(RI+II)系没有受到大量的切变负载而根据温度与份量比値被调整,且其中,前述之混合区域系继之以一被旋转轮/定片系统(尤其是该旋转轮的一长齿部边缘)所定义之最大切变负载区域。8.根据申请专利范围第7项所述之方法,其中,一相的混合系在该预先混合容室中于不同的速度与不同的静压力下,从该等试剂(RI,RII)生产而来,一相I被直接地馈入前述之容室中,且一相II经由入口通道,并藉着因为循环压力的差异所产生的脉动而进入预先混合容室中。9.一种用于均质化例如糊状混合物之物质的方法,其使用一配置于一容器中或一容器上之分散装置,且该容器尤其是在其底部具有至少一个旋转轮/定片系统,且在需要时该分散装置系具有一用于媒介物流束(RI)之进给系统;其特征在于,藉由二阶段的处理来产生明确的分流束(RI`,RII“,RII),藉此,一初始产品(RI+II)系从试剂或蜡溶剂于一第一处理阶段中获得,而该初始产品系在该第二处理阶段中被添加到主媒介物流束(RI)或其部份(RI")中。10.根据申请专利范围第9项所述之方法,其中,在该第一处理阶段中,一热试剂流束(次流束RII)系与一分配剂量的冷媒介物之主流束(RI)在一预先混合容室中被结合并分散,其中该冷媒介物之主流束(RI)系已被分出一分流束(RI`),该混合物(RI+II)接着被在该第二处理阶段中与媒介物主流束剩余的部份(RI“)再混合以产生最终的产品(RIII)。11.根据申请专利范围第10项所述之方法,其中,该分散过程系为自行配剂的,使得供应于旋转轮/定片系统下方之该试剂的分流束(次流束RII)再预先混合容室中与该媒介物的分流束(RI`)被分散,所产生的初始产品(RI+II)经由一回复线与从上方馈入的主流束(RI)稀释,并在其中再混合以形成一最终流束(E)。12.根据申请专利范围第10项所述之方法,其中,一上下颠倒的圆锥体系藉由快速运作的旋转轮而产生于该预先混合容室中,该圆锥体降低的压力可帮助试剂分流束(次流束RII)的配剂。13.根据申请专利范围第9项所述之方法,其中,分流束(RI`,RII)与剩余主流束部份(RI“)的混合系藉由控制静压力而被促进,尤其是藉着在该次流束(RII)中产生的静压力,其中该静压力系超过主流束(RI)或其中一部份(RI")的静压力。14.根据申请专利范围第9项所述之方法,其中,该分散装置的出口流束(E)系被馈入另一个容器中,在该容器中该出口流束(E)系藉由一例如缓慢运作的搅拌器而被保持均质。15.根据申请专利范围第9项所述之方法,其中,粉状物质系从上方被加入至该主流束(RI)或是其中一部份(RI“)之中。16.一种用于产生具有在m范围内之小滴尺寸的乳状物的方法,其使用一配置于一容器中或一容器上之分散装置,且该容器尤其是在其底部具有至少一个旋转轮/定片系统,且在需要时该分散装置系具有一用于媒介物流束(RI)之进给系统;其特征在于,藉由二阶段的处理来产生明确的分流束(RI`,RII“,RII),藉此,一初始产品(RI+II)系从试剂或蜡溶剂于一第一处理阶段中获得,而该初始产品系在该第二处理阶段中被添加到主媒介物流束(RI)或其部份(RI")中。17.根据申请专利范围第16项所述之方法,其中,在该第一处理阶段中,一热试剂流束(次流束RII)系与一分配剂量的冷媒介物之主流束(RI)在一预先混合容室中被结合并分散,其中该冷媒介物之主流束(RI)系已被分出一分流束(RI`),该混合物(RI+II)接着被在该第二处理阶段中与媒介物主流束剩余的部份(RI“)再混合以产生最终的产品(RIII)。18.根据申请专利范围第17项所述之方法,其中,该分散过程系为自行配剂的,使得供应于旋转轮/定片系统下方之该试剂的分流束(次流束RII)再预先混合容室中与该媒介物的分流束(RI`)被分散,所产生的初始产品(RI+II)经由一回复线与从上方馈入的主流束(RI)稀释,并在其中再混合以形成一最终流束(E)。19.根据申请专利范围第17项所述之方法,其中,一上下颠倒的圆锥体系藉由快速运作的旋转轮而产生于该预先混合容室中,该圆锥体降低的压力可帮助试剂分流束(次流束RII)的配剂。20.根据申请专利范围第16项所述之方法,其中,分流束(RI`,RII)与剩余主流束部份(RI“)的混合系藉由控制静压力而被促进,尤其是藉着在该次流束(RII)中产生的静压力,其中该静压力系超过主流束(RI)或其中一部份(RI")的静压力。21.根据申请专利范围第16项所述之方法,其中,该分散装置的出口流束(E)系被馈入另一个容器中,在该容器中该出口流束(E)系藉由一例如缓慢运作的搅拌器而被保持均质。22.根据申请专利范围第16项所述之方法,其中,粉状物质系从上方被加入至该主流束(RI)或是其中一部份(RI“)之中。23.一种用于均质化例如糊状混合物之物质的装置,其具有一配置于一容器中或一容器上之分散装置,且尤其是在靠近该容器底部具有至少一个旋转轮/定片系统,且在需要时,尤其是在实行任一项前述申请专利范围所述之方法时,该装置系具有从上方的一产品进给入口以及至少一个被提供于其上方区域之进给装置;其中,一特别是用于热试剂之进给线系导入一在旋转轮下方之预先混合容室中,且其中该预先混合容室在旋转轮/定片系统的底部,经由一出口通道而具有一与一主容室的流动连接。24.根据申请专利范围第23项所述之装置,其中,该预先混合容室被配置在旋转轮外部区域中,且是在该旋转轮底部与一外部定片环之间,较佳地是以一种该旋转轮从其轮毂可向上达到该预先混合容室之出口通道的方式来配置。25.根据申请专利范围第24项所述之装置,其中,该外部定片环包含有从主容室向下延伸之定片齿部,该齿不予旋转轮圆周以一最小间隙重叠而不与其接触,并且延伸至一对中地与旋转轮底部相对置之底部凸缘。26.根据申请专利范围第23项所述之装置,其中,一进给线系通到一个被整合于底部凸缘中的入口通道,该进给线被当作是一平行于该底部,尤其是相对于旋转轮外部底部之径向通道。27.根据申请专利范围第23项所述之装置,其中,在旋转轮底部系藉由一向上达到预先混合容室区域之平坦的圆锥体而形成一偏斜本体,该偏斜本体并具有至少一个圆锥状或有一陡峭圆锥部份角度之凹面的外部表面,在偏斜表面附近的过渡区域被设计成一尖锐的边缘。28.根据申请专利范围第23项所述之装置,其中,该装置具有一有一罩盖的定片,在外部定片环部外部,一偏斜容室被提供于靠近具有出口开孔分布在其周围的底部凸缘,其中该罩盖系限定被排置在靠近该旋转轮且直接在中心地形成的罩盖上方之进给系统。29.根据申请专利范围第23项所述之装置,其中,该装置系具有一被设计为一中空轴马达的传动装置,该传动装置被一底部凸缘以及配置在一直角的支撑凸缘所支撑,该中空轴系被例如挡止或碟形弹簧支撑,使得该中空轴的直线延伸以及驱动轴的直线延伸只能在离开该底部凸缘的方向上。30.根据申请专利范围第23项所述之装置,其中,该压力分布可以在用于调整分散装置的一脉动作用之出口侧边而被控制,尤其是在出口承口后方的一出口通道中,分别地藉由选择流动路径与流动距离以及循环角度,以及/或藉由表面的尺寸与该出口开孔的排置。31.根据申请专利范围第23项所述之装置,其中,一个被当作容器底部凸缘的连接装置具有一入口导管,该入口导管系围绕在旋转轮/定片系统上方的进给装置一出口承口,一具有一关闭装置的回复线系从该入口导管分支出来,前述之回复线回归进入该容器中,且较佳地进入在产品位准之下。32.根据申请专利范围第31项所述之装置,其中,该回复线至少被安装在该容器外部的一部份且/或适合被加热或冷却。33.根据申请专利范围第23项所述之装置,其中,该分散装置的一个或二个阶段皆可采用超音波作用,且其中该旋转轮系在该等阶段中形成一间歇性的反射器。34.根据申请专利范围第23项所述之装置,其中,该通道在预先混合容室区域中的容量,或者是其容量本身系为可调整者,尤其是藉由改变该旋转轮的形状以及/或定片的形状,而该切变边缘长度仍保持不变。35.根据申请专利范围第23项所述之装置,其中,为了影响分流束的能量密度与保留时间,该切变边缘长度为可调整者,而该预先混合容室的容量仍保持不变。36.根据申请专利范围第23项所述之装置,其中,其特征在于该装置被设计以一独立的可接附之预先分散阶段。37.一种用于产生具有在m范围内之小滴尺寸的乳状物的装置,其具有一配置于一容器中或一容器上之分散装置,且尤其是在靠近该容器底部具有至少一个旋转轮/定片系统,且在需要时,尤其是在实行任一项前述申请专利范围所述之方法时,该装置系具有从上方的一产品进给入口以及至少一个被提供于其上方区域之进给装置;其中,一特别是用于热试剂之进给线系导入一在旋转轮下方之预先混合容室中,且其中该预先混合容室在旋转轮/定片系统的底部,经由一出口通道而具有一与一主容室的流动连接。38.根据申请专利范围第37项所述之装置,其中,该预先混合容室被配置在旋转轮外部区域中,且是在该旋转轮底部与一外部定片环之间,较佳地是以一种该旋转轮从其轮毂可向上达到该预先混合容室之出口通道的方式来配置。39.根据申请专利范围第38项所述之装置,其中,该外部定片环包含有从主容室向下延伸之定片齿部,该齿不予旋转轮圆周以一最小间隙重叠而不与其接触,并且延伸至一对中地与旋转轮底部相对置之底部凸缘。40.根据申请专利范围第37项所述之装置,其中,一进给线系通到一个被整合于底部凸缘中的入口通道,该进给线被当作是一平行于该底部,尤其是相对于旋转轮外部底部之径向通道。41.根据申请专利范围第37项所述之装置,其中,在旋转轮底部系藉由一向上达到预先混合容室区域之平坦的圆锥体而形成一偏斜本体,该偏斜本体并具有至少一个圆锥状或有一陡峭圆锥部份角度之凹面的外部表面,在偏斜表面附近的过渡区域被设计成一尖锐的边缘。42.根据申请专利范围第37项所述之装置,其中,该装置具有一有一罩盖的定片,在外部定片环部外部,一偏斜容室被提供于靠近具有出口开孔分布在其周围的底部凸缘,其中该罩盖系限定被排置在靠近该旋转轮且直接在中心地形成的罩盖上方之进给系统。43.根据申请专利范围第37项所述之装置,其中,该装置系具有一被设计为一中空轴马达的传动装置,该传动装置被一底部凸缘以及配置在一直角的支撑凸缘所支撑,该中空轴系被例如挡止或碟形弹簧支撑,使得该中空轴的直线延伸以及驱动轴的直线延伸只能在离开该底部凸缘的方向上。44.根据申请专利范围第37项所述之装置,其中,该压力分布可以在用于调整分散装置的一脉动作用之出口侧边而被控制,尤其是在出口承口后方的一出口通道中,分别地藉由选择流动路径与流动距离以及循环角度,以及/或藉由表面的尺寸与该出口开孔的排置。45.根据申请专利范围第37项所述之装置,其中,一个被当作容器底部凸缘的连接装置具有一入口导管,该入口导管系围绕在旋转轮/定片系统上方的进给装置一出口承口,一具有一关闭装置的回复线系从该入口导管分支出来,前述之回复线回归进入该容器中,且较佳地进入在产品位准之下。46.根据申请专利范围第45项所述之装置,其中,该回复线至少被安装在该容器外部的一部份且/或适合被加热或冷却。47.根据申请专利范围第37项所述之装置,其中,该分散装置的一个或二个阶段皆可采用超音波作用,且其中该旋转轮系在该等阶段中形成一间歇性的反射器。48.根据申请专利范围第37项所述之装置,其中,该通道在预先混合容室区域中的容量,或者是其容量本身系为可调整者,尤其是藉由改变该旋转轮的形状以及/或定片的形状,而该切变边缘长度仍保持不变。49.根据申请专利范围第37项所述之装置,其中,为了影响分流束的能量密度与保留时间,该切变边缘长度为可调整者,而该预先混合容室的容量仍保持不变。50.根据申请专利范围第37项所述之装置,其中,其特征在于该装置被设计以一独立的可接附之预先分散阶段。图式简单说明:图1系为一具有凸缘之分散装置之处理容器示意轴向的截面图;图2系为一流动图;图3系为一具有一预先混合容室之旋转轮/定片部份截面图;图4系显示一在图3中第IV区域之放大细部图;图5系为一具有示意指示传动装置之均质器示意轴向的截面图;图6系为一具有连接装置之相似均质器示意轴向的截面图;图7a、7b、7c系显示根据图6之一连接装置之不同部份之轴向截面图,且其中部份为分解图(图7a);图8a、8b、9a、9b每一个系显示定片环部之部份截面的平面图;图10a、10b系为驱动轴以及一被连接至该驱动轴之搅动轴的侧视图;以及图11a、11b、11c系分别显示一旋转轮与突出部之平面图与侧视图。 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