| 摘要 |
<p>Ein Verfahren zum Herstellen eines Kondensators umfaßt ein Bereitstellen einer Rohstruktur mit einem Substrat (210) und wenigstens einer dielektrischen Schicht (224, 226), wobei ein erster Bereich und ein zweiter Bereich des Substrats (210) durch eine isolierende Schicht (212, 214, 216) getrennt sind. Oberhalb des ersten und zweiten Bereichs wird auf die wenigstens eine dielektrische Schicht (224, 226) eine elektrisch leitfähige Schicht (228) aufgebracht. Ferner wird eine Maskenschicht (230) auf die elektrisch leitfähige Schicht aufgebracht, wobei dieselbe zur Erzeugung einer ersten Maske (230) oberhalb des ersten Bereichs strukturiert wird. Das Verfahren umfaßt ferner ein Wegätzen der elektrisch leitfähigen Schicht (230) und zumindest einer der dielektrischen Schichten (226) im zweiten Bereich mittels der ersten Maske und ein Fertigprozessieren eines aktiven Elements im zweiten Bereich.</p> |
