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发明名称 RASTERELEKTRONENMIKROSKOP UNTER KONTROLLIERTER UMGEBUNG MIT MEHRPOLFELDER ZUR ERHÖTER SEKUNDÄRELEKTRONENERFASSUNG
摘要
申请公布号 DE69815498(D1) 申请公布日期 2003.07.17
申请号 DE19986015498 申请日期 1998.10.19
申请人 FEI CO., HILLSBORO 发明人 VAN DER MAST, DIEDERICK
分类号 H01J37/244;H01J37/28;(IPC1-7):H01J37/244 主分类号 H01J37/244
代理机构 代理人
主权项
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