发明名称 可调式偏振光反应光阻与应用该光阻微影工艺
摘要 一种可调式偏振光反应光阻与应用此光阻的微影工艺,适用于曝光光学系统的高数值孔径。此光阻的组成中包含一感光聚合物,此感光聚合物能吸收曝光光源而产生光反应,且能以电场或磁场排列成一预设指向,而此感光聚合物对一偏振光的反应性是随此预设指向与偏振光的夹角而变。另外此微影工艺中调整光阻中感光聚合物的指向,使其对P偏振光的反应性低于对S偏振光的反应性,而能够弥补高数值孔径下P偏振光的穿透系数大于S偏振光的现象,进而防止光阻图案产生变形。
申请公布号 CN1430100A 申请公布日期 2003.07.16
申请号 CN01130268.2 申请日期 2001.12.29
申请人 旺宏电子股份有限公司 发明人 林顺利;许伟华
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 北京集佳专利商标事务所 代理人 王学强
主权项 1.一种可调式偏振光反应光阻,适用于一微影工艺,其特征在于:该光阻的组成中包括一感光聚合物,并且该感光聚合物能吸收该微影工艺中所使用的一曝光光源,而产生光反应;该感光聚合物能通过一物理方式排列,以具有一特定指向;该感光聚合物对一偏振光的反应性随该特定指向以及该偏振光的偏振方向的夹角而改变。
地址 台湾省新竹科学工业园区力行路16号