| 发明名称 | 具有可靠的单轴各向异性的铁磁叠层材料 | ||
| 摘要 | 一种磁电阻膜包括受钉扎铁磁层；自由铁磁层；置于受钉扎和自由铁磁层之间的中间层；以及接触受钉扎铁磁层的钉扎层。自由铁磁材料层由铁磁叠层材料制成，包括钴镍铁合金层以及设置在钴镍铁合金层上的钴铁合金层。现已证明钴镍铁合金层用于在钴铁合金层中可靠建立单轴磁各向异性。此外，即使钴镍铁合金层以及钴铁合金层的厚度减小，单轴磁各向异性仍能可靠地保持在铁磁叠层材料中。 | ||
| 申请公布号 | CN1430205A | 申请公布日期 | 2003.07.16 |
| 申请号 | CN02158832.5 | 申请日期 | 2002.12.25 |
| 申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 野间贤二 |
| 分类号 | G11B5/39;G11B5/245 | 主分类号 | G11B5/39 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1.一种磁电阻膜，包括：受钉扎铁磁层；由钴镍铁合金层和钴铁合金层制成的自由铁磁层；置于受钉扎和自由铁磁层之间的中间层；以及接触受钉扎铁磁层的钉扎层。 | ||
| 地址 | 日本神奈川 | ||