| 发明名称 |
Method for defect reduction |
| 摘要 |
A method and a composition is disclosed comprising polishing the substrate using a slurry and introducing solution onto a metallized layer that comprises an acid.
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| 申请公布号 |
US6592433(B2) |
申请公布日期 |
2003.07.15 |
| 申请号 |
US19990476977 |
申请日期 |
1999.12.31 |
| 申请人 |
INTEL CORPORATION |
发明人 |
BUEHLER MARK F. |
| 分类号 |
B24B37/04;C23G1/10;H01L21/02;H01L21/321;H01L21/3213;H01L23/48;(IPC1-7):B24B1/00 |
主分类号 |
B24B37/04 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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