| 主权项 |
1.一种环烷酮之制法,其系使用具有以下述式(I)所示(其中,X系表示氧原子或羟基)之醯亚胺单位之氧化触媒,自环烷制造环烷酮的方法,其特征为包含(A)在上述氧化触媒存在下使环烷与分子状氧接触的步骤,(B)自反应混合物分离上述触媒、副生成的酸成份或其衍生物之步骤,(C)自反应混合物分离环烷、环烷醇与环烷酮之步骤,及(D)将所分离出的环烷醇循环至氧化反应系之步骤。2.如申请专利范围第1项之制法,其中自反应混合物分离含环烷之第1成份与具有较第1成份为高的沸点且含有环烷酮及环烷醇之第2成份,并自第2成份分离环烷酮与环烷醇。3.如申请专利范围第2项之制法,其中自第1成份分离环烷与杂质,且自第2成份分离环烷酮与环烷醇与杂质。4.如申请专利范围第1项之制法,其中使酸成份或其衍生物藉由至少一种选自萃取、加水分解、皂化及中和之处理予以分离。5.如申请专利范围第1项之制法,其中使含有经萃取、加水分解、皂化及中和处理的处理物之成份与环烷酮与环烷醇分离。6.如申请专利范围第1项之制法,其中使含有至少1种选自制造羟基胺之步骤、制造如申请专利范围第1项之氧化触媒的步骤、调制含有如申请专利范围第1项之氧化触媒之触媒溶液的步骤以及使提供反应之触媒再生的步骤。7.如申请专利范围第1项之制法,其中环烷为C4-10环烷。8.如申请专利范围第1项之制法,其中环烷为环己烷。9.如申请专利范围第1项之制法,其中在溶剂存在下反应,自反应混合物分离溶剂。10.如申请专利范围第1项之制法,其中含有下述步骤(i)、(ii)及(iii):(i)自反应混合物分离含环烷之第1成份与含环烷酮及环烷醇之第2成份、与含有上述氧化触媒、副生成的酸成份及其衍生物的成份,于该步骤(i)中藉由蒸馏使第1成份与第2成份分离,(ii)自第1成份分离环烷,将其循环至氧化反应系的步骤,(iii)自第2成份分离环烷醇,将其循环至氧化反应系的步骤。11.如申请专利范围第10项之制法,其中自含有氧化触媒、副生成的酸成份及其衍生物之成份分离上述氧化触媒,将其循环至氧化反应系。12.如申请专利范围第10项之制法,其中在溶剂存在下反应,自反应混合物分离上述溶剂,将其循环至反应系。13.如申请专利范围第10项之制法,其中至少1种选自自第1成份分离副生成的水,使用该水使上述酸成份或其衍生物萃取、加水分解、皂化及中和之处理。14.如申请专利范围第10项之制法,其中连续进行供应环烷及触媒之步骤,进行氧化反应之步骤、步骤(i)、步骤(ii)及步骤(iii)。15.如申请专利范围第1项之制法,其中氧化触媒为以式(II)所示之醯亚胺化合物:(其中,R1及R2为相同或不同的氢原子、卤素原子、烷基、芳基、环烷基、羟基、烷氧基、羧基、烷氧基羰基、醯基;R1与R2可互相键结为双键、或形成芳香族性或非芳香族性环,藉由R1及R2所形成的芳香族性或非芳香族性环亦可至少具有1个以上述式(I)所示之醯亚胺单位。16.如申请专利范围第1项之制法,其中氧化触媒为至少1种选自N-羟基琥珀酸醯亚胺、N-羟基马来酸醯亚胺、N-羟基六氢苯二甲酸醯亚胺、N,N'-二羟基环己烷四羧酸醯亚胺、N-羟基苯二甲酸醯亚胺、N-羟基四溴苯二甲酸醯亚胺、N-羟基四氯苯二甲酸醯亚胺、N-羟基氯桥酸醯亚胺、N-羟基红茅酸醯亚胺、N-羟基偏苯三甲酸醯亚胺、N,N'-二羟基均苯四甲酸醯亚胺及N,N'-二羟基四羧酸醯亚胺之化合物。17.如申请专利范围第1项之制法,其中氧化触媒之使用量对1莫耳环烷而言为0.001-1莫耳。18.如申请专利范围第1项之制法,其中另使用共氧化剂。19.如申请专利范围第18项之制法,其中共氧化剂为含有至少1种选自周期表第3族元素、4族元素、5族元素、6族元素、7族元素、8族元素、9族元素、10族元素、11族元素及13族元素之元素的化合物。20.如申请专利范围第18项之制法,其中共氧化剂之使用量对1莫耳环烷而言为0.001-0.7莫耳。图式简单说明:第1图系为说明本发明方法之流程图。第2图系为说明本发明之其他方法之流程图。第3图系为说明本发明之另一方法之流程图。第4图系为说明本发明之其他方法之流程图。 |
