| 主权项 |
1.一种显像处理装置,其特征为具备:将被处理基板大约水平地载置并予以搬运所用的搬运体朝水平方向舖设所成的搬运路,及在上述搬运路上为了搬运上述基板而驱动上述搬运体的搬运驱动手段,及将显像处理用所定处理液供给于上述搬运路上的上述基板的被处理面所用的包含1或复数喷嘴的处理液供给手段,及将上述处理供给手段的至少一具喷嘴作成可动喷嘴而沿着上述搬运路进行移动所用的喷嘴扫描手段。2.如申请专利范围第1项所述的显像处理装置,其中,上述处理液供给部的可动喷嘴,具有以一定间隔配置于上述搬运路的宽度方向的多数吐出口。3.如申请专利范围第1项或第2项所述的显像处理装置,其中,上述喷嘴扫描部具有:支持上述可动喷嘴的喷嘴支持部,及在上述搬运路上方用以引导上述喷嘴支持部的引导部,及沿着上述引导部能移动而驱动上述喷嘴支持部的驱动部。4.如申请专利范围第1项所述的显像处理装置,其中,具有为了调节或变更上述可动喷嘴的高度位置而昇降上述可动喷嘴的喷嘴昇降手段。5.如申请专利范围第1项所述的显像处理装置,其中,具有覆盖上述可动喷嘴的可移动的上述搬运路上的空间的盖体。6.如申请专利范围第1项所述的显像处理装置,其中,设置沿着上述搬运路,在上述基板的被处理面供给显像液并用以显像的显像部,及位于比上述显像部更下游侧,在上述基板的被处理面供给纯水并用以停止显像的冲洗部。7.如申请专利范围第6项所述的显像处理装置,其中,具有:用以收集在上述显像部内掉至上述搬运路下面的液的第一集液部,及用以收集在上述冲洗部内掉至上述搬运路下面的液的第二集液部。8.如申请专利范围第6项所述的显像处理装置,其中,上述处理液供给手段包含在上述显像部内用以将显像液喷上上述基板的被处理面的第一可动喷嘴;上述喷嘴扫描手段包含至少在上述显像部的区域内用以将上述第一可动喷嘴沿着上述搬运路进行移动的第一喷嘴扫描部。9.如申请专利范围第6项所述的显像处理装置,其中,上述处理液供给手段包含在上述显像部内用以将显像液盛满液于上述基板的被处理面的第二可动喷嘴;上述喷嘴扫描手段包含至少在上述显像部的区域内用以将上述第二可动喷嘴沿着上述搬运路进行移动的第二喷嘴扫描部。10.如申请专利范围第6项所述的显像处理装置,其中,上述处理液供给手段包含在上述显像部内进行显像之前用以将预湿用处理液喷上上述基板的被处理面的第三可动喷嘴;上述喷嘴扫描手段包含至少在上述显像部的区域内用以将上述第三可动喷嘴沿着上述搬运路进行移动的第三喷嘴扫描部。11.如申请专利范围第6项所述的显像处理装置,其中,上述处理液供给手段包含在上述冲洗部内用以将冲洗液喷上上述基板的被处理面的第四可动喷嘴;上述喷嘴扫描手段包含至少在上述冲洗部的区域内用以将上述第四可动喷嘴沿着上述搬运路进行移动的第四喷嘴扫描部。12.如申请专利范围第1项所述的显像处理装置,其中,具有在上述搬运路上为了从上述基板上以重力掉下处理液而倾斜上述基板的基板倾斜手段。13.如申请专利范围第12项所述的显像处理装置,其中,上述基板倾斜手段是朝上述搬运路的前方或后方倾斜上述基板。14.如申请专利范围第12项所述的显像处理装置,其中,上述基板倾斜手段具有为了从上述基板上以重力掉下使用于显像的显像液而倾斜上述基板的第一基板倾斜部。15.如申请专利范围第11项所述的显像处理装置,其中,上述基板倾斜手段包含为了从上述基板上以重力掉下使用于预湿的处理液而倾斜上述基板的第二基板倾斜部。16.如申请专利范围第1项所述的显像处理装置,其中,具有在上述搬运路上为了从水平姿势的上述基板上除去处理液而以所定物理力沿着上述基板的表面相对地朝水平方向移动的处理液除去手段。17.如申请专利范围第16项所述的显像处理装置,其中,上述处理液除去手段包含为了从搬运上述搬运路上的上述基板上除去使用于显像的显像液而在第一位置将锐利的气体流抵接于上述基板表面的气体喷射手段。18.如申请专利范围第16项所述的显像处理装置,其中,上述处理液除去手段包含为了从搬运上述搬运路上的上述基板上除去使用于停止显像的冲洗液而在第二位置将锐利的气体流抵接于上述基板表面的气体喷射手段。19.如申请专利范围第7项所述的显像处理装置,其中,上述第一集液部包含用以主要收集在上述显像部内使用于显像的显像液的显像液用集液部。20.如申请专利范围第7项所述的显像处理装置,其中,上述第一集液部包含用以主要收集在上述显像部内使用于预湿的处理液的预湿液用集液部。21.如申请专利范围第1项所述的显像处理装置,其中,上述基板搬运体包含结合于可旋转的轴的至少一对辊。22.如申请专利范围第1项所述的显像处理装置,其中,上述喷嘴扫描手段是包含变更上述可动喷嘴的移动速度的变更手段。23.如申请专利范围第1项所述的显像处理装置,其中,上述处理液供给手段是包含变更从上述喷嘴所喷出的处理液的流量的变更手段。图式简单说明:第1图是表示可适用本发明的显像处理装置的涂布显像处理系统的构成的俯视图。第2图是表示实施形态的涂布显像处理系统的热性处理部的构成的侧视图。第3图是表示实施形态的涂布显像处理系统的处理顺序的流程图。第4图是表示实施形态的显像单元的整体构成的前视图。第5图是表示实施形态的显像单元的基板搬入部及预湿部周围的构成的俯视图。第6图是表示实施形态的显像单元的基板搬入部及预湿部周围的构成的局部断面前视图。第7图是表示实施形态的基板搬入部的构成及作用(基板交接)的局部断面侧视图。第8图是表示实施形态的基板搬入部的构成及作用(基板移载)的局部断面侧视图。第9图是表示实施形态的喷嘴扫描机构的构成的局部断面侧视图。第10图是表示实施形态的喷嘴扫描机构的构成的局部断面立体图。第11图是表示实施形态的基板倾斜机构的构成及作用(抬高基板)的局部断面侧视图。第12图是表示实施形态的基板倾斜机构的构成及作用(倾斜基板)的局部断面侧视图。第13图(a)、(b)是表示实施形态的喷嘴扫描的作用的概略侧视图。第14图是表示实施形态的气体切割部的作用的概略侧视图。 |
