发明名称 阀密封衬垫系统
摘要 本发明系有关一种用于诸如工业制程等之多种应用中之阀密封之系统,该系统系被设置以于该等阀中之阀杆产生密封,并因此控制包括那些可能有毒的流体之渗漏与逸散至环境中。依据本发明,一衬垫系统已于不同之具体实施例中发展出来,包括由不同之材料组合之多个环。组成该衬垫系统之预先形成的多个环组系提供予阀杆及主体/外罩间之连结,依据该阀之型态与等级,一般而言该系统视封套箱之深度而定包括3至8环,一金属的或非-金属的间隔器可被放置以填满其中之空间。该阀密封衬垫系统包括如下结构之一5环组合:一第一端部环,三环,及一第二端部环,该等环形成该系统且执行不同之角色,如此依据该系统所达成的是,多个内部的径向力被产生,其为对阀杆表面及外面之力,对封套箱之壁之力,结果导致一非常有效的密封功能。大部分环之上部与下部部位系在其分叉之间以或高些或低些的角度构成一"V"形。
申请公布号 TW541407 申请公布日期 2003.07.11
申请号 TW091119188 申请日期 2002.08.27
申请人 黄A 梅尔 哥雅尼加 发明人 黄A 梅尔 哥雅尼加
分类号 F16K41/00 主分类号 F16K41/00
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种用于诸如工业制程等之多种应用中之阀密封衬垫系统,该系统被设置以密封阀杆,且被设置于阀封套箱内,该等设备藉由一填涵箱运行之压力而被压缩及扩展,其系依次承受来自由一凸缘(法兰)压力所造成之绷紧,及因而控制渗漏逸散至环境中,其特征为由以与不同之材料组合而成之环所构成,此为该两端部环,而一或更多中央环则产生朝向阀杆表面与封套箱壁之径向与轴向力,该等环具有一不同之结构,第一端部环系为其处承受来自填涵箱之压力,其具有一平坦之上部表面,在该同一环亦具有一以一固定数値之角度构成之下部部位,该一或更多之中央环则具有以固定数値之角度形成一正常为"V"形或倒反位置之一上部部位与下部部位之结构,第二端部环之上部部位则以一固定数値之角度构成,且其平坦之下部部位则承受于填涵箱之边缘。2.如申请专利范围第1项之阀密封衬垫系统,其特征为系由五个或更多环组成,其中该等环之大多数之上部与下部部位,系于其分叉间以类似一角度或高些或低些之"V"形方式所构成,该第一端部环之上部端部有一平坦表面,而其下部部位则于一正常位置以一"V"形构成,该第一中央环有一"V"结构之上部部位连结至第一端部环之下部端部,第一中央环下部部位亦有一"V"形结构,其系重叠中央环之上部部位其即为第三环,其具有一对应于上部部位之形状,于一正常位置以一"V"形构成,自第三环之下部端部起,其中之结构有一倒"V"形,有相同之倒"V"形结构者为第四环之上部端部,其系藉由组合该等环之倒"V"形结构以重叠第三与第四环,该等结构之此相同的关系,亦维持于第四环之下部端部与第五环之上部端部或第二端部环之间,该第二端部环之下部端部系为平坦的且承受于填涵箱之边缘。3.如申请专利范围第1项之阀密封衬垫系统,其特征为该中央环于其端部之上部与下部两者皆有一双重"V"形结构;其一于正常位置而另一则于倒反位置;该环扮演一双重面角色即为传导径向与轴向力,藉由依赖一双重密封点之结构及依次集中由该等衬垫之端部运行之该等力,即可倒转该区之该等衬垫之排列。4.如申请专利范围第1项之阀密封衬垫系统,其特征为该第一上部环直接承受填涵箱之压力,而五个环中最后一个环则维持填涵箱之压力,该压力被传导穿过靠着衬垫箱之下部部位造成毗连及密封之三个中央环。5.如申请专利范围第1项之阀密封衬垫系统,其特征为由三个环所构成,其一即为第一端部环,一中央环及一第二外部环,该第一环之上部端部部位系为平坦的,第一环之另一端部则有一"V"形结构;第二环之上部部位亦有一"V"形结构,连结第一环之下部部位与第二环之上部部位,中央环之下部部位及第二端部环之上部部位有一倒"V"形结构,藉由吻合它们的结构即可连结两者之端部,而第三环之另一端部则系为平坦的。6.如申请专利范围第1项之阀密封衬垫系统,其特征为由八个环所构成,其一为第一端部环,一中央环与一第二端部环,第一环之上部端部部位系为平坦的,第一环之另一端部则有一"V"形结构;第二环之上部部位亦有一"V"形结构,连结第一环之下部部位与第二环之上部部位;中央环之下部部位与第二端部环之上部部位均有一倒"V"形结构,藉由吻合它们的结构即可连结两者之端部,而第三环之另一端部则系为平坦的。7.如申请专利范围第1项之阀密封衬垫系统,其特征为端部环系由嵌有具弹性可弯曲的石墨线股并涂有以钡钼酸盐(Barium Molybdate)及/或锌为盐基之腐蚀抗化剂的英高镍超合金(镍基超合金inconel)钢穿线所制成,而中央环则由有弹性可弯曲的石墨制成。8.如申请专利范围第1项之阀密封衬垫系统,其特征为由该等环之"V"形分叉所形成之角度,是否位于其有一30至180范围之正常或倒反位置,视衬垫之大小而定。9.如申请专利范围第1项之阀密封衬垫系统,其特征为该等环分叉之"V"结构深度不管在一正常或在倒反位置,皆系被视为自顶点区域至端部部位,其大约为1至25mm,视衬垫之大小而定。图式简单说明:图1显示一阀之一上部部位剖视图,衬垫之位置亦绘于其中。图2系有关于应力型态之描绘,藉由该等应力衬垫被传导达到在阀中之最佳密封。图3绘出一完整的阀剖视图,衬垫之位置亦绘于其中。图4显示目前市面上所熟知之衬垫之一型态。图5系有关于本专利申请人所发展之一衬垫系统之一剖面透视图。图6显示依据本发明之图5之阀衬垫系统之一侧面剖视图。图7系为符合本专利申请人所发展之阀衬垫系统之一不同的具体实施例之一侧面剖视图,其中包括只有3个环。图8,9与10系为符合包括5环之同一衬垫系统之多个不同视图,图8系为符合上部平面视图,图9为沿着P-Q线之一分解的侧面剖视图,及图10系为符合组装好之5环之一横断面剖视图。
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