| 发明名称 |
Fotoempfindliche Polymerzusammensetzung, Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern, und elektronische Bauteile |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
DE69908534(D1) |
申请公布日期 |
2003.07.10 |
| 申请号 |
DE19996008534 |
申请日期 |
1999.10.29 |
| 申请人 |
HITACHI CHEMICAL DUPONT MICROSYSTEMS LTD., TOKIO/TOKYO |
发明人 |
NUNOMURA, MASATAKA;OHE, MASAYUKI |
| 分类号 |
H01L21/312;C08G73/10;C08L79/08;G03F7/004;G03F7/022;G03F7/023;G03F7/037;G03F7/039;(IPC1-7):G03F7/023 |
主分类号 |
H01L21/312 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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