发明名称 |
波阵面传感器应用于能够进行制造后光学能力改性的透镜 |
摘要 |
本发明涉及具有折射调节组合物的光学元件的加工方法。该方法包括使用波阵面传感器提供光学元件的光学测量值。本发明还涉及包括具有折射调节组合物的光学元件和波阵面传感器的系统。描述了其中光学元件是眼内透镜的实施方案。由波阵面传感器测量的透镜的光学像差是通过折射调节组合物的光聚合来校正,后者改变透镜的折射性能。透镜折射误差的校正能够在透镜植入眼睛内之后进行。 |
申请公布号 |
CN1429090A |
申请公布日期 |
2003.07.09 |
申请号 |
CN01808409.5 |
申请日期 |
2001.03.20 |
申请人 |
加利福尼亚技术学院;卡尔霍恩影像公司;加利福尼亚大学董事会 |
发明人 |
C·A·森德斯特德特;J·M·吉斯马拉尼;R·H·格鲁布斯;J·A·康菲尔德;D·M·施瓦茨;R·马伦尼 |
分类号 |
A61F2/16;A61B3/103;G02B1/04;G02B27/00 |
主分类号 |
A61F2/16 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
黄淑辉 |
主权项 |
1.校正光学系统中像差的系统,包括:光学元件和波阵面传感器,其中该光学元件包括第一聚合物基质和分散在其中的折射调节组合物,其中该折射调节组合物能够进行刺激-诱导聚合。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |