| 发明名称 | 处理含烃岩层的方法 | ||
| 摘要 | 公开一种就地处理含烃岩层以及从所述的岩层生产烃流体的方法，所述方法包括从岩层生产烃流体的过程中在至少1.5巴的压力下热解岩层中存在的烃类。本方法任选生产合成气的后续步骤，该步骤包括将已按本发明方法被部分耗竭的含烃岩层与生产合成气所用流体进行反应。任选将这样生产的合成气转化成烃类和/或通过使这样生产的合成气膨胀和/或燃烧或将它用于燃料电池来产生能量。 | ||
| 申请公布号 | CN1429309A | 申请公布日期 | 2003.07.09 |
| 申请号 | CN01809704.9 | 申请日期 | 2001.04.24 |
| 申请人 | 国际壳牌研究有限公司 | 发明人 | I·E·伯肯克;E·德鲁菲格纳克;H·J·万嘉;S·L·威灵顿;G·L·斯特戈美尔;K·A·玛尔 |
| 分类号 | E21B43/24;E21B43/30 | 主分类号 | E21B43/24 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 孙爱 |
| 主权项 | 1.一种就地处理含烃岩层以及从所述岩层生产烃流体的方法，所述方法包括在从岩层生产烃流体的过程中，在至少1.5巴的压力下热解岩层中存在的烃类，条件是若压力为3.52巴且热解反应是在可达301.7℃的温度下发生，则热源要使用一种不是仅能提供射频加热的热源。 | ||
| 地址 | 荷兰海牙 | ||