| 发明名称 | 金属和金属/电介质结构的化学机械抛光用组合物 | ||
| 摘要 | 一种组合物，它包含：2.5～70％(体积)30wt％阳离子改性硅溶胶的，其阳离子改性二氧化硅颗粒的平均粒度介于12～300nm；以及0.05～22wt％至少一种氧化剂；且其pH值介于2.5～6，特别适合作为抛光淤浆用于金属和金属/电介质结构的化学机械抛光。 | ||
| 申请公布号 | CN1428388A | 申请公布日期 | 2003.07.09 |
| 申请号 | CN02159810.X | 申请日期 | 2002.12.27 |
| 申请人 | 拜尔公司 | 发明人 | L·普佩;G·帕辛;蔡明莳 |
| 分类号 | C09G1/02 | 主分类号 | C09G1/02 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘元金;马崇德 |
| 主权项 | 1.一种组合物，它包含：2.5～70％体积的30wt％阳离子改性硅溶胶的，其阳离子改性二氧化硅颗粒的平均粒度介于12～300nm；以及0.05～22wt％至少一种氧化剂；且其pH值介于2.5～6。 | ||
| 地址 | 联邦德国莱沃库森 | ||