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"MéTODO PARA O TRATAMENTO DE UM SUBSTRATO METáLICO POR PLASMA E DISPOSITIVO PARA O TRATAMENTO DE UM SUBSTRATO METáLICO POR PLASMA". A invenção refere-se a um método para tratamento, em particular para limpeza e/ou aquecimento, de um substrato metálico (1) movimentando-se de forma substancialmente contínua numa câmara de vácuo (3) possuindo uma zona de tratamento na qual uma descarga elétrica (10), que é plasma, e um campo magnético são produzidos num gás mantido a uma pressão mais baixa que a pressão atmosférica entre pelo menos o substrato (1) formando um eletrodo, e pelo menos um contra-eletrodo (9) de modo que o substrato (1) seja bombardeado com íons produzidos na descarga elétrica (10). Dito método é caracterizado pelo fato de que um campo de indução de confinamento magnético é gerado em toda a volta do substrato (1) na zona de tratamento de modo que a descarga elétrica (10) é da mesma forma confinada totalmente em volta do substrato (1) em dita zona de tratamento pelo confinamento dos elétrons liberados pela descarga elétrica (10).
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