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发明名称
METHOD FOR POLISHING COPPER LAYER OF SUBSTRATE
摘要
申请公布号
KR20030057366(A)
申请公布日期
2003.07.04
申请号
KR20020083892
申请日期
2002.12.26
申请人
发明人
分类号
H01L21/304;B24B37/00;B24B37/04;B24B37/30;C09G1/02;C09K3/14;C09K13/04;H01L21/321;H05K3/26;H05K3/38;H05K3/46
主分类号
H01L21/304
代理机构
代理人
主权项
地址
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