发明名称 METHOD FOR POLISHING COPPER LAYER OF SUBSTRATE
摘要
申请公布号 KR20030057366(A) 申请公布日期 2003.07.04
申请号 KR20020083892 申请日期 2002.12.26
申请人 发明人
分类号 H01L21/304;B24B37/00;B24B37/04;B24B37/30;C09G1/02;C09K3/14;C09K13/04;H01L21/321;H05K3/26;H05K3/38;H05K3/46 主分类号 H01L21/304
代理机构 代理人
主权项
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