| 发明名称 | 除去光致抗蚀剂的洗涤液 | ||
| 摘要 | 本发明涉及用于除去光致抗蚀剂树脂的洗涤液和使用该洗涤液形成图案的方法。本发明的洗涤液包括作为主要成分的水(H<SUB>2</SUB>O)以及作为添加剂的一种或多种表面活性剂和醇化合物，该表面活性剂选自聚氧化烯化合物、式1的醇胺与具有羧酸(－COOH)基团的烃化合物的盐、式1的醇胺与具有磺酸(－SO<SUB>3</SUB>H)基团的烃化合物的盐、式2的聚乙二醇化合物、式3的化合物、分子量范围为1000～10000并含有式4重复单元的化合物、聚醚变性的硅化合物。其中R<SUB>1</SUB>，R<SUB>2</SUB>，R<SUB>3</SUB>，R<SUB>4</SUB>，R<SUB>5</SUB>，A，l和n如说明书中所定义。 | ||
| 申请公布号 | CN1427072A | 申请公布日期 | 2003.07.02 |
| 申请号 | CN02151862.9 | 申请日期 | 2002.12.12 |
| 申请人 | 海力士半导体有限公司 | 发明人 | 李根守;郑载昌;申起秀;孔根圭;李晟求;黄永善 |
| 分类号 | C11D1/66;C11D3/20 | 主分类号 | C11D1/66 |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 巫肖南;封新琴 |
| 主权项 | 1.一种除去光致抗蚀剂物质的洗涤液，其包括作为主要成分的水(H2O)和作为添加剂的一种或多种表面活性剂，该表面活性剂选自聚氧化烯化合物、式1的醇胺与具有羧酸(-COOH)基团的烃化合物的盐、式1的醇胺与具有磺酸(-SO3H)基团的烃化合物的盐、式2的聚乙二醇化合物、式3的化合物、分子量范围为1000～10000并含有式4重复单元的化合物和聚醚变性的硅化合物：【式1】其中，R1和R2是氢，C1-C10烷基和C1-C10烷基醇；和l是1～10的整数；【式2】其中，m是1～500的整数；和数均分子量范围为62～20000；【式3】和其中，R3和R4是氢，C1-C10烷基，芳基，asin，C1-C10氨基烷基，氨基芳基，羧酸基或磺酸基；R5是氨基，羟基，C1-C10烷基，芳基，asin，氨基烷基，氨基芳基，羧酸基或磺酸基；A是C1-C5亚烷基或C3-C10芳香烃；和n是0～2的整数；【式4】 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||