| 发明名称 |
PLATING SYSTEM WITH REMOTE SECONDARY ANODE FOR SEMICONDUCTOR MANUFACTURING |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1323186(A2) |
申请公布日期 |
2003.07.02 |
| 申请号 |
EP20010941966 |
申请日期 |
2001.06.04 |
| 申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICES INC. |
发明人 |
TRAN, MINH, QUOC |
| 分类号 |
C25D7/12;C25D21/14;H01L21/288;(IPC1-7):H01L21/288 |
主分类号 |
C25D7/12 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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