| 发明名称 | 光致抗蚀剂组合物 | ||
| 摘要 | 本发明涉及光致抗蚀剂，揭示一种包含有机酸并具有改善清除特性的光呈像组合物。也揭示增进光呈像组合物清除性的方法，及使用该光呈像组合物制造印刷线路板的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1427307A | 申请公布日期 | 2003.07.02 |
| 申请号 | CN01144640.4 | 申请日期 | 2001.12.21 |
| 申请人 | 希普利公司 | 发明人 | T·A·克斯 |
| 分类号 | G03F7/032 | 主分类号 | G03F7/032 |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 戈泊;彭益群 |
| 主权项 | 1.一种光致抗蚀剂组合物，包括聚合黏合剂、光活性成分、有机酸及视需要的交联剂，其中，有机酸与聚合黏合剂、视需要的交联剂或两者为非聚合性。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||