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发明名称 SACRIFICIAL INLAY PROCESS FOR IMPROVED INTEGRATION OF POROUS INTERLEVEL DIELECTRICS
摘要
申请公布号 AU2002357169(A1) 申请公布日期 2003.06.30
申请号 AU20020357169 申请日期 2002.12.11
申请人 ADVANCED MICRO DEVICES, INC. 发明人 ERCAM ADEM;DARRELL, M. ERB
分类号 H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/768 主分类号 H01L21/768
代理机构 代理人
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