| 发明名称 |
SUBSTRATE TREATING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2002357591(A1) |
申请公布日期 |
2003.06.30 |
| 申请号 |
AU20020357591 |
申请日期 |
2002.12.16 |
| 申请人 |
TOKYO ELECTRON LIMITED |
发明人 |
MASARU SASAKI;TAKUYA SUGAWARA;SEIJI MATSUYAMA |
| 分类号 |
H01L29/78;H01L21/28;H01L21/318;H01L29/51;(IPC1-7):H01L21/318 |
主分类号 |
H01L29/78 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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