发明名称 RESIST RESIN, CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE RESIST, AND METHOD OF FORMING PATTERN WITH THE SAME
摘要
申请公布号 KR20030053469(A) 申请公布日期 2003.06.28
申请号 KR20027013134 申请日期 2001.07.02
申请人 发明人
分类号 G03F7/039;C08F34/02;C08F220/10;C08F222/06;C08G61/06;C08G61/08;C08G61/12;H01L21/027;H01L21/312 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
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