| 摘要 |
<p>Bei einem Verfahren zur Herstellung eines piezoelektrischen Schwingkreises in Dünnfilmtechnologie, bei dem der Schwingkreis eine vorbestimmte Eigenfrequenz und eine Mehrzahl von Schichten (112a, 112b, 114, 116a, 116b) umfasst, wird zunächst zumindest eine erste Schicht (116a) des piezoelektrischen Schwingkreises erzeugt. Anschließend wird durch Bearbeiten der ersten Schicht (116a) eine Frequenzkorrektur durchgeführt. Anschließend wird zumindest eine zweite Schicht (116b) des piezoelektrischen Schwingkreises erzeugt, und zum Durchführen einer zweiten Frequenzkorrektur bearbeitet.</p> |
