STRUCTURED SURFACES HAVING ELEVATIONS AND DEPRESSIONS, METHOD FOR PRODUCING SURFACES OF THIS TYPE AND THE USE THEREOF

摘要

Die Erfindung betrifft strukturierte Oberflächen mit Erhebungen und Vertiefungen, die polyedrische oligomere Silizium-Sauerstoffclustereinheiten aufweisen. Solche Oberflächen können z. B. hydrophobe, abrieb- und kratzfeste Eigenschaften und/oder selbstreinigende Eigenschaften aufweisen. Ebenso können solche Oberflächen entspiegelt sein. Die erfindungsgemässen Oberflächen werden dadurch erhalten, dass polyedrische oligomere Silizium-Sauerstoffclusterverbindungen auf eine Oberfläche aufgebracht und dort fixiert werden. In einer besonderen Ausführungsart des erfindungsgemässen Verfahrens wandert die polyedrische oligomere Silizium-Sauerstoffclusterverbindung während der Verarbeitung an die Oberfläche und wird dort fixiert.