发明名称 |
信息记录介质和用于制造该信息记录介质的方法 |
摘要 |
本发明提供了一种信息记录介质,该介质允许高密度的记录/重现,具有良好的热稳定性,并且由于采用了高溅射率的中间层而具有良好的记录/重现特性,非常适合于大批量生产。该信息记录介质中,中间层3的厚度大于等于所述第一保护层2和所述中间层3厚度之和的0.25而小于等于所述第一保护层2和所述中间层3厚度之和的0.67,中间层3至少包括钽(Ta)和氧(O)。该介质非常适合大批量生产,并对于高密度记录/重现具有良好的记录/重现特性。 |
申请公布号 |
CN1426055A |
申请公布日期 |
2003.06.25 |
申请号 |
CN02121841.2 |
申请日期 |
2002.02.28 |
申请人 |
株式会社日立制作所 |
发明人 |
广常朱美;宫本真;新谷俊通;安藤圭吉;安斋由美子;黑川贵弘 |
分类号 |
G11B7/24;G11B7/26 |
主分类号 |
G11B7/24 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
付建军 |
主权项 |
1、一种信息记录介质,包括:可重写的记录薄膜,用于通过光照改变原子排布来进行信息记录,第一保护层,该保护层设置在所述记录薄膜的光入射侧,和中间层,该中间层设置在所述第一保护层和所述记录薄膜之间,并与所述记录薄膜相接触,其特征在于,所述中间层的厚度大于所述第一保护层和所述中间层厚度之和的0.2而小于所述第一保护层和所述中间层厚度之和的0.67,所述中间层至少包括钽(Ta)和氧(O)。 |
地址 |
日本东京 |