| 发明名称 | 用于无机表面的蚀刻糊 | ||
| 摘要 | 本发明涉及呈具有非牛顿流动性能的可印刷、均相、无颗粒的蚀刻糊形式的新型蚀刻介质，其用于蚀刻无机表面，尤其是玻璃，优选二氧化硅－和四氮化三硅基玻璃以及其他二氧化硅－和四氮化三硅基体系及其各层。本发明进一步涉及所述蚀刻介质的用途。 | ||
| 申请公布号 | CN1426381A | 申请公布日期 | 2003.06.25 |
| 申请号 | CN01808708.6 | 申请日期 | 2001.03.23 |
| 申请人 | 默克专利有限公司 | 发明人 | S·克莱因;L·海德;C·杰林斯基;A·屈贝尔可;W·斯托库姆 |
| 分类号 | C03C15/00;C09K13/08 | 主分类号 | C03C15/00 |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 刘金辉;林柏楠 |
| 主权项 | 1.一种具有非牛顿流动特性的可印刷、均相、无颗粒的蚀刻介质，其用于蚀刻无机、玻璃状或结晶表面。 | ||
| 地址 | 德国达姆施塔特 | ||