| 发明名称 |
Method and apparatus for modification of chemically amplified photoresist by electron beam exposure |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2002366548(A8) |
申请公布日期 |
2003.06.23 |
| 申请号 |
AU20020366548 |
申请日期 |
2002.12.05 |
| 申请人 |
ELECTRON VISION CORPORATION |
发明人 |
MATTHEW F. ROSS;RICHARD L. ROSS;WILLIAM R. LIVESAY |
| 分类号 |
G03F7/20;G03F7/40;(IPC1-7):G03F7/40;H01L21/68;H01J37/20 |
主分类号 |
G03F7/20 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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