制备经取代之唑烷二酮衍生物的方法

摘要

一种制备式(I)化合物之方法：或其互变异构形或其医药上可接受的盐类，或其医药上可接受的溶剂化物，其中： A1代表经取代或未经取代芳香族杂环基； R1代表一个氢原子、烷基、醯基和芳烷基，其中芳基部份可为经取代或未经取代，或者为一个经取代或未经取代的芳基；A2代表一个具有总数至多5个取代基之苯环；以及n代表一个整数，其范围从2至6，其制法包含催化还原式(II)化合物：其中A1、R1、A2和n如式(I)中所定义，特征在于利用高于20psi的氢气压力下进行还原反应；之后，若有需要并且形成式(I)化合物之医药上可接受的盐类和/或医药上可接受的溶剂化物。

主权项

1.一种藉由还原5-{4-[2-(N-甲基-N-(2-啶基)胺基)乙氧基]亚基}-2,4-唑烷二酮或其互变异构形或其盐或其溶剂化物制备5-{4-[2-(N-甲基-N-(2-啶基)胺基)乙氧基]基}-2,4-唑烷二酮或其互变异构形或其盐或其溶剂化物之方法,其特征在于利用高于20psi的氢气压力进行还原反应;之后,若有需要并且形成式(I)化合物之医药上可接受的盐类和/或医药上可接受的溶剂化物。2.根据申请专利第1项之方法,其中反应是利用从50至1500psi、60至1500psi、75至1500psi、70至1000psi或200至1500psi之氢气压力范围下进行。3.根据申请专利第1或2项之方法,其中反应氢气压力范围是从70至1000psi。4.根据申请专利第1至3项中任一项之方法,其中反应氢气压力是70.75.80.500或1000psi。5.根据申请专利第1至4项中任一项之方法,其中氢化触媒是一种10%钯于碳上之触媒。6.根据申请专利第1至5项中任一项之方法,其中触媒负荷是5至100%(触媒相对于基材之%重量/重量)。7.根据申请专利第1至6项中任一项之方法,其中反应溶剂是醋酸、醋酸水溶液、烷醇、烷醇与无机酸水溶液的掺合物,四氢喃或四氢喃与无机酸水溶液的掺合物。8.根据申请专利第7项之方法,其中反应溶剂是醋酸。9.根据申请专利第1至8项中任一项之方法,其中反应温度范围是从80℃至115℃。