| 主权项 |
1.一种光阻剂组成物,其包括:光敏性聚合物,其之聚合系用至少一具有下式之单体:其中R1及R2分别为氢原子、烷基、羟基烷基、烷基氧基、羰基或酯,且x及y分别为1到6的整数,以及至少一选择自由(甲基)丙烯酸酯单体,甲基丙烯酸酯单体,马来酐单体,及原冰片烯单体所组成之族群中的共单体;以及光酸生成剂(PAG),其中光敏性聚合物具有重量平均分子量为3,000到100,000,且光酸生成剂(PAG)之份量在基于光敏性聚合物之重量下在1到30重量%范围内。2.根据申请专利范围第1项之光阻剂组成物,其中共单体为马来酐单体,而光敏性聚合物之化学式可为选自下式之一:其中m(m+q)在0.01-0.5之范围,其中n(n+q)在0.01-0.5之范围,及其中(m+n)/(m+n+q)在0.01-0.5之范围。3.根据申请专利范围第1项之光阻剂组成物,其中共单体包括甲基丙烯酸酯单体及马来酐单体,而光敏性聚合物之化学式可为选自下式:其中R3为氢或甲基,R4为酸不稳定基,且m/(m+p+q)在0.01-0.5之范围,p/(m+p+q)在0.1-0.6之范围,而q/(m+p+q)在0.1-0.6之范围,其中R3为氢原子或甲基,R4为酸不稳定基,且n/(n+p+q)在0.01-0.5之范围,p/(n+p+q)在0.1-0.6之范围,而q/(n+p+q)在0.1-0.6之范围,及其中R3为氢原子或甲基,R4为酸不稳定基,且(m+n)/(m+n+p+q)在0.01-0.5之范围,p/(m+n+p+q)在0.1-0.6之范围,而q/(m+n+p+q)在0.1-0.6之范围。4.根据申请专利范围第3项之光阻剂组成物,其中R4为特丁基、四氢喃基或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物。5.根据申请专利范围第4项之光阻剂组成物,其中R4为2-甲基-原冰片基,2-乙基-2-原冰片基,2-甲基-2-异冰片基,2-乙基-2-异冰片基,8-甲基-8-三环[5.2.1.02,6]癸基,8-乙基-8-三环[5.2.1.02,6]癸基,2-甲基-2-金刚烷基,2-乙基-2-金刚烷基,1-金刚烷基-1-甲基乙基,2-甲基-2-葑基或2-乙基-2-葑基。6.根据申请专利范围第1项之光阻剂组成物,其中共单体包括甲基丙烯酸酯单体,马来酐单体及原冰片烯单体,及光敏性聚合物之化学式可为选自下式:其中R3为氢原子或甲基;R4为酸不稳定基;R5及R6分别为氢原子,羟基,羟基甲基,2-羟基乙基氧基羰基,羧基,特丁氧基羰基,甲氧基羰基,或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物;m/(m+p+q+r)在0.01-0.5之范围,p/(m+p+q+r)在0.1-0.6之范围,q/(m+p+q+r)在0.1-0.6之范围,而r/(m+p+q+r)在0.1-0.3之范围,其中R3为氢原子或甲基;R4为酸不稳定基;R5及R6分别为氢原子,羟基,羟基甲基,2-羟基乙基氧基羰基,羧基,特丁氧基羰基,甲氧基羰基,或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物;n/(n+p+q+r)在0.01-0.5之范围,p/(n+p+q+r)在0.1-0.6之范围,q/(n+p+q+r)在0.1-0.6之范围,而r/(n+p+q+r)在0.1-0.3之范围,及其中R3为氢原子或甲基;R4为酸不稳定基;R5及R6分别为氢原子,羟基,羟基甲基,2-羟基乙基氧基羰基,羧基,特丁氧基羰基,甲氧基羰基,或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物;(m+n)/(m+n+p+q+r)在0.01-0.5之范围,p/(m+n+p+q+r)在0.1-0.6之范围,q/(m+n+p+q+r)在0.1-0.6之范围,而r/(m+n+p+q+r)在0.1-0.3之范围。7.根据申请专利范围第6项之光阻剂组成物,其中R4为特丁基、四氢喃基或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物。8.根据申请专利范围第6项之光阻剂组成物,其中R4为2-甲基-2-原冰片基,2-乙基-2-原冰片基,2-甲基-2-异冰片基,2-乙基-2-异冰片基,8-甲基-8-三环[5.2.1.02,6]癸基,8-乙基-8-三环[5.2.1.02,6]癸基,2-甲基-2-金刚烷基,2-乙基-2-金刚烷基,1-金刚烷基-1-甲基乙基,2-甲基-2-葑基或2-乙基-2-葑基。9.根据申请专利范围第1项之光阻剂组成物,其中光酸生成剂(PAG)包括三芳基盐类,二芳基碘盐类,磺酸盐类或前述之混合物。10.根据申请专利范围第1项之光阻剂组成物,其中光酸生成剂(PAG)包括三苯基三氟甲烷磺酸盐,三苯基锑酸盐,二苯基碘三氟甲烷磺酸盐,二苯基碘锑酸盐,甲氧基二苯基碘三氟甲烷磺酸盐,二特丁基二苯基碘三氟甲烷磺酸盐,2,6-二硝基基磺酸盐,连苯三酚参(烷基磺酸盐),N-羟基琥珀醯亚胺三氟甲烷磺酸盐,原冰片烯-二羧醯亚胺三氟甲烷磺酸盐,三苯基九氟甲烷磺酸盐(nonaflate),二苯基碘九氟甲烷磺酸盐,甲氧基二苯基碘九氟甲烷磺酸盐,二特丁基二苯基碘九氟甲烷磺酸盐,N-羟基琥珀醯亚胺九氟甲烷磺酸盐,原冰片烯-二羧醯亚胺九氟甲烷磺酸盐,三苯基全氟辛烷磺酸盐(PFOS),二苯基碘PFOS,甲氧基二苯基碘PFOS,二特丁基二苯基碘三氟甲烷磺酸盐,N-羟基琥珀醯亚胺PFOS,原冰片烯-二羧醯亚胺PFOS,或彼等化合物之混合物。11.根据申请专利范围第1项之光阻剂组成物,其进一步包括有机硷。12.根据申请专利范围第11项之光阻剂组成物,其中有机硷之份量为基于光敏性聚合物之重量的0.01到2.0重量%。13.根据申请专利范围第11项之光阻剂组成物,其中有机硷包括单独三级胺化合物或至少两个三级胺化合物之混合物。14.根据申请专利范围第13项之光阻剂组成物,其中有机硷包括三乙基胺,三异丁基胺,三异辛基胺,三异癸基胺,二乙醇胺,三乙醇胺或彼等化合物之混合物。15.根据申请专利范围第1项之光阻剂组成物,其进一步包括界面活性剂,其量为30到200ppm。16.根据申请专利范围第1项之光阻剂组成物,其进一步包括溶解抑制剂,其量在基于光敏性聚合物之重量下为0.1到50重量%。17.一种光阻剂组成物,其包括:光敏性聚合物,其之聚合系用至少一具有下式之单体:其中v及w分别为1到6的整数,以及至少一选择自由丙烯酸酯单体,甲基丙烯酸酯单体,马来酐单体及原冰片烯单体所组成之族群中之共单体;及光酸生成剂(PAG),其中光敏性聚合物具有重量平均分子量为3,000到100,000,且光酸生成剂(PAG)之份量在基于光敏性聚合物之重量下在1到30重量%范围内。18.根据申请专利范围第17项之光阻剂组成物,其中共单体为马来酐单体,及光敏性聚台物之化学式可为选自下式之一:其中k/(k+q)在0.01-0.5之范围,其中l/(l+q)在0.01-0.5之范围,及其中(k+l)/(k+l+q)在0.01-0.5之范围。19.根据申请专利范围第17项之光阻剂组成物,其中共单体包括甲基丙烯酸酯单体,及光敏性聚合物之化学式可为选自下式之一:其中R3为氢原子或甲基;R4为酸不稳定基;且k/(k+p)在0.3-0.8之范围,其中R3为氢原子或甲基;R4为酸不稳定基;且l/(l+P)在0.3-0.8之范围,及其中R3为氢原子或甲基;R4为酸不稳定基;且(k+l)/(k+l+p)在0.3-0.8之范围。20.根据申请专利范围第19项之光阻剂组成物,其中R4为特丁基、四氢喃基或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物。21.根据申请专利范围第20项之光阻剂组成物,其中R4为2-甲基-2-原冰片基,2-乙基-2-原冰片基,2-甲基-2-异冰片基,2-乙基-2-异冰片基,8-甲基-8-三环[5.2.1.02,6]癸基,8-乙基-8-三环[5.2.1.02,6]癸基,2-甲基-2-金刚烷基,2-乙基-2-金刚烷基,1-金刚烷基-1-甲基乙基,2-甲基-2-葑基或2-乙基-2-葑基。22.根据申请专利范围第17项之光阻剂组成物,其中共单体包括甲基丙烯酸酯单体及马来酐单体,及光敏性聚合物之化学式可为选自下式之一:其中R3为氢原子或甲基;R4为酸不稳定基;且k/(k+p+q)在0.01-0.5之范围,p/(k+p+q)在0.1-0.6之范围,且q/(k+p+q)在0.1-0.6之范围,其中R3为氢原子或甲基;R4为酸不稳定基;且l/(l+p+q)在0.01-0.5之范围,p/(l+p+q)在0.1-0.6之范围,且q/(l+p+q)在0.1-0.6之范围,及其中R3为氢原子或甲基;R4为酸不稳定基;且(k+l)/(k+l+p+q)在0.01-0.5之范围,p/(k+l+p+q)在0.1-0.6之范围,且q/(k+l+p+q)在0.1-0.6之范围。23.根据申请专利范围第22项之光阻剂组成物,其中R4为特丁基、四氢喃基或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物。24.根据申请专利范围第23项之光阻剂组成物,其中R4为2-甲基-2-原冰片基,2-乙基-2-原冰片基,2-甲基-2-异冰片基,2-乙基-2-异冰片基,8-甲基-8-三环[5.2.1.02,6]癸基,8-乙基-8-三环[5.2.1.02,6]癸基,2-甲基-2-金刚烷基,2-乙基-2-金刚烷基,1-金刚烷基-1-甲基乙基,2-甲基-2-葑基或2-乙基-2-葑基。25.根据申请专利范围第17项之光阻剂组成物,其中共单体包括马来酐单体及原冰片烯单体,及光敏性聚合物之化学式可为选自下式之一:其中R5及R6分别为氢原子,羟基,羟基甲基,2-羟基乙基氧基羰基,羧基,特丁氧基羰基,甲氧基羰基,或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物;k/(k+q+r)在0.01-0.5之范围,q/(k+q+r)在0.1-0.6之范围,r/(k+q+r)在0.1-0.3之范围,其中R5及R6分别为氢原子,羟基,羟基甲基,2-羟基乙基氧基羰基,羧基,特丁氧基羰基,甲氧基羰基,或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物;l/(l+q+r)在0.01-0.5之范围,q/(l+q+r)在0.1-0.6之范围,而r/(l+q+r)在0.1-0.3之范围,其中R5及R6分别为氢原子,羟基,羟基甲基,2-羟基乙基氧基羰基,羧基,特丁氧基羰基,甲氧基羰基,或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物;(k+l)/(k+l+q+r)在0.01-0.5之范围,q/(k+l+q+r)在0.1-0.6之范围,而r/(k+l+q+r)在0.1-0.3之范围。26.根据申请专利范围第17项之光阻剂组成物,其中共单体包括甲基丙烯酸酯单体,马来酐单体及原冰片烯单体,及光敏性聚合物之化学式可为选自下式之一:其中R3为氢原子或甲基;R4为酸不稳定基;R5及R6分别为氢原子,羟基,羟基甲基,2-羟基乙基氧基羰基,羧基,特丁氧基羰基,甲氧基羰基,或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物;k/(k+p+q+r)在0.01-0.5之范围,p/(k+p+q+r)在0.1-0.6之范围,q/(k+p+q+r)在0.1-0.6之范围,而r/(k+p+q+r)在0.1-0.3之范围,其中R3为氢原子或甲基;R4为酸不稳定基;R5及R6分别为氢原子,羟基,羟基甲基,2-羟基乙基氧基羰基,羧基,特丁氧基羰基,甲氧基羰基,或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物;l/(l+p+q+r)在0.01-0.5之范围,p/(l+p+q+r)在0.1-0.6之范围,q/(l+p+q+r)在0.1-0.6之范围,而r/(l+p+q+r)在0.1-0.3之范围,及其中R3为氢原子或甲基;R4为酸不稳定基;R5及R6分别为氢原子,羟基,羟基甲基,2-羟基乙基氧基羰基,羧基,特丁氧基羰基,甲氧基羰基,或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物;(k+l)/(k+l+p+q+r)在0.01-0.5之范围,p/(k+l+p+q+r)在0.1-0.6之范围,q/(k+l+p+q+r)在0.1-0.6之范围,而r/(k+l+p+q+r)在0.1-0.3之范围。27.根据申请专利范围第26项之光阻剂组成物,其中R4为特丁基、四氢喃基或具有6到20个碳原子之经取代或未经取代脂环族碳氢化合物。28.根据申请专利范围第27项之光阻剂组成物,其中R4为2-甲基-2-原冰片基,2-乙基-2-原冰片基,2-甲基-2-异冰片基,2-乙基-2-异冰片基,8-甲基-8-三环[5.2.1.02,6]癸基,8-乙基-8-三环[5.2.1.02,6]癸基,2-甲基-2-金刚烷基,2-乙基-2-金刚烷基,1-金刚烷基-1-甲基乙基,2-甲基-2-葑基或2-乙基-2-葑基。29.根据申请专利范围第17项之光阻剂组成物,其中光酸生成剂(PAG)包括三芳基盐类,二芳基碘盐类,磺酸盐类或前述之混合物。30.根据申请专利范围第17项之光阻剂组成物,其进一步包括有机硷。31.根据申请专利范围第30项之光阻剂组成物,其中有机硷之份量为基于光敏性聚合物之重量的0.01到2.0重量%。32.根据申请专利范围第30项之光阻剂组成物,其中有机硷包括单独三级胺化合物或至少两个三级胺化合物之混合物。33.根据申请专利范围第32项之光阻剂组成物,其中有机硷包括三乙基胺,三异丁基胺,三异辛基胺,三异癸基胺,二乙醇胺,三乙醇胺或彼等化合物之混合物。34.根据申请专利范围第17项之光阻剂组成物,其进一步包括界面活性剂,其量为30到200ppm。35.根据申请专利范围第17项之光阻剂组成物,其进一步包括溶解抑制剂,其量在基于光敏性聚合物之重量下为0.1到50重量%。36.一种光阻剂组成物,其包括光敏性聚合物,其包括至少一具有下式之单体:其中R7,R8,R9,R10,R11,R12,R13,R14及R15分别为氢原子或烷基,且z为1到6之整数,其中光敏性聚合物具有重量平均分子量为3,000到100,000。 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