| 主权项 |
1.一种罩幕保护膜结构,其中该罩幕保护膜系黏着于一罩幕上,用以屏蔽该罩幕上之图案层,而该罩幕保护膜结构至少包括:一透光膜层;一第一抗静电材质层,恰覆盖住该透光膜层之顶面;一第二抗静电材质层,恰覆盖住该透光膜层之底面;一金属框,环绕于该第二抗静电材质层之边缘,且该第二抗静电材质层位于该金属框与该透光膜层之间,该金属框之顶面以一第一非导电胶层黏着于该第二抗静电材质层上,且该金属框之底面以一第二非导电胶层黏着于该罩幕上;一第三抗静电材质层,环绕于该第二抗静电材质层之边缘,且恰覆盖住该第一非导电胶层、该金属框与该第二非导电胶层三者之外环侧面;一第四抗静电材质层,环绕于该第二抗静电材质层之边缘,且恰覆盖住该第一非导电胶层、该金属框与该第二非导电胶层三者之内环侧面。2.如申请专利范围第1项之结构,其中上述透光膜层包含i线膜层。3.如申请专利范围第1项之结构,其中上述第一抗静电材质层、该第二抗静电材质层、该第三抗静电材质层、该第四抗静电材质层之材质包含((CH3)4N)Cl。4.如申请专利范围第3项之结构,其中上述第一抗静电材质层与该第二抗静电材质层之厚度均约为100~1000埃。5.如申请专利范围第3项之结构,其中上述第三抗静电材质层与该第四抗静电材质层之厚度均约为1~2微米。6.如申请专利范围第3项之结构,其中上述第一抗静电材质层与该第二抗静电材质层,可以利用旋涂法(spin coating)将((CH3)4N)Cl之水溶液涂布于该透光膜层上而形成。7.如申请专利范围第6项之结构,其中上述((CH3)4N)Cl之水溶液的重量百分率浓度约为0.4%~0.6%,而所使用的溶剂为超纯水(de-ion water)。8.如申请专利范围第3项之结构,其中上述第三抗静电材质层与该第四抗静电材质层,可以利用将黏着有该第一非导电胶层与该第二非导电胶层的该金属框,浸入((CH3)4N)Cl之水溶液中而形成。9.如申请专利范围第8项之结构,其中上述((CH3)4N)Cl之水溶液的重量百分率浓度约为1.2%~1.8%,而所使用的溶剂为超纯水(de-ion water)。10.如申请专利范围第1项之结构,其中上述第一非导电胶层与该第二非导电胶层之材质包含压克力聚合物。11.一种罩幕保护膜结构,其中该罩幕保护膜系黏着于一罩幕上,用以屏蔽该罩幕上之图案层,而该罩幕保护膜结构至少包括:一透光膜层;一第一抗静电材质层,恰覆盖住该透光膜层之顶面;一第二抗静电材质层,恰覆盖住该透光膜层之底面;一金属框,环绕于该第二抗静电材质层之边缘,且该第二抗静电材质层位于该金属框与该透光膜层之间,该金属框之顶面以一第一导电胶层黏着于该第二抗静电材质层上,且该金属框之底面以一第二导电胶层黏着于该罩幕上。12.如申请专利范围第11项之结构,其中上述透光膜层包含i线膜层。13.如申请专利范围第11项之结构,其中上述第一抗静电材质层、该第二抗静电材质层之材质包含((CH3)4N)Cl。14.如申请专利范围第13项之结构,其中上述第一抗静电材质层与该第二抗静电材质层之厚度均约为100~1000埃。15.如申请专利范围第13项之结构,其中上述第一抗静电材质层与该第二抗静电材质层,可以利用旋涂法(spin coating)将((CH3)4N)Cl之水溶液涂布于该透光膜层上而形成。16.如申请专利范围第15项之结构,其中上述((CH3)4N)Cl之水溶液的重量百分率浓度约为0.4%~0.6%,而所使用的溶剂为超纯水(de-ion water)。17.如申请专利范围第11项之结构,其中上述第一导电胶层与该第二导电胶层之材质包含聚醚胺高分子。图式简单说明:图一为传统罩幕与黏着于其上的罩幕保护膜之截面示意图;图二为根据本发明之第一较佳实施例,罩幕与黏着于其上的罩幕保护膜之截面示意图;图三为根据本发明之第二较佳实施例,罩幕与黏着于其上的罩幕保护膜之截面示意图。 |
