| 主权项 |
1.一种义足用气筒装置,系用以辅助膝盖之弯曲及伸展之义足用气筒装置,其特征系:具备气筒本体,系为筒型者,其一侧之端部由头部所封闭,另一侧之端部则由底部所封闭;活塞,系设于该气筒本体之内部,将该内部隔开为头部侧之第1室与底部侧之第2室者;活塞杆,系一端侧与该活塞构成一体,另一端侧则从用以连接义足之上述气筒本体之头部侧向外部延伸者;第1通路,系连通上述第1室与上述第2室间之通路,其包含有允许从上述第1室朝上述向第2室流通之第1逆止阀;及第2通路,系连通上述第1室与上述第2室间之另一通路,其包含有恒定限制从第2室朝向第1室流通之恒定节流阀;并且,在膝盖弯曲时为升高第2室之内部压力,又具备如下之构成:A.在上述气筒本体的底部及面对该底部之活塞的一面,具有相互嵌合之凹部或凸部,系藉由随着膝盖的弯曲角度之增大,将上述底部侧之第2室,隔开成包含面对用以连通上述恒定节流阀之开口的特定室在内之复数室之隔开机构;B.在藉由上述隔开机构所隔开之复数室中,具有将除去上述特定室外之各室分别通过各自之节流阀使与上述第1室相连通之辅助通路。2.如申请专利范围第1项之义足用气筒装置,其中,上述辅助通路之节流阀,系通过上述特定室及上述恒定节流阀与上述第1室相连通者。3.如申请专利范围第1项之义足用气筒装置,其中,上述隔开机构,含有用以密封上述相互嵌合之凹部或凸部之部份之密封构件。4.如申请专利范围第2项之义足用气筒装置,其中,上述第2通路,构成将上述隔开之复数室连通至上述第1室侧之共通之通路。5.如申请专利范围第1或2项之义足用气筒装置,其中,上述第2通路,具备上述恒定节流阀外,又含有允许从上述第2室朝向上述第1室流通之第2逆止阀。6.如申请专利范围第1或2项之义足用气筒装置,其中,上述恒定节流阀及上述节流阀,系节流量为一定之固定节流阀。7.如申请专利范围第1项之义足用气筒装置,其中,上述第2通路,系设于上述气筒本体者。8.如申请专利范围第7项之义足用气筒装置,其中,上述第1通路,系设于上述活塞或上述气筒本体之任一方者。9.如申请专利范围第1或2项之义足用气筒装置,其中,上述特定室之体积,比隔开之复数室之剩余室之体积要小。10.如申请专利范围第1或2项之义足用气筒装置,其中,上述隔开之复数室,系于上述活塞之中心轴周围且为同轴心所配置者。图式简单说明:图1是显示适用于具备多轴之膝盖关节之义足之形态之本发明在膝盖为伸展状态之图。图2是显示图1之形态中膝盖呈略为弯曲状态之图。图3是显示图1之形态中膝盖呈最大弯曲状态之图。图4是显示适用于具备单轴之膝盖关节之义足之形态之本发明在膝盖为伸展状态之图。图5是显示图4之形态中膝盖呈略为弯曲状态之图。图6是显示图4之形态中膝盖呈最大弯曲状态之图。图7是显示本发明之实施例1中膝盖为伸展状态之剖面图。图8是显示图7之实施例1中膝盖呈略为弯曲状态之图。图9是显示图7之实施例1中膝盖呈最大弯曲状态之图。图10是显示实施例1之压力特性之图。图11是显示本发明之实施例2中膝盖为伸展状态之剖面图。图12是显示图11之实施例2中膝盖呈略为弯曲状态之图。图13是显示图11之实施例2中膝盖呈最大弯曲状态之图。图14是显示本发明之实施例3中膝盖为伸展状态之剖面图。图15是显示图14之实施例3中膝盖呈略为弯曲状态之图。图16是显示图14之实施例3中膝盖呈最大弯曲状态之图。图17是显示本发明之实施例4中膝盖为伸展状态之剖面图。图18是显示图17之实施例4中膝盖呈略为弯曲状态之图。图19是显示图17之实施例4中膝盖呈最大弯曲状态之图。图20是显示实施例4之压力特性之图。 |
